磁控溅射（EMI）专用镀膜设备：磁控溅射（EMI）屏蔽膜，应用于手提电脑、手机壳、电话、无线通讯、视听电子、摇控器、导航和医用工具等，全自动控制，配置先进大功率磁控电源，恒流输出。独特的工件架设计，公自转，产量大、良品率高，利用石英晶振膜厚仪测量膜层厚度，可镀制精确的膜层厚度。PLC人机界面自动控制系统，随时可修改镀膜参数。磁控溅射(EMI)镀膜设备技术参数说明设备型号ZCK-1200BZCK-1400BZCK-1600BZCK-1800B 真空室尺寸1200×15001400×19501600×19501800×1950 制膜种类EMI防电磁干扰屏蔽膜、装饰膜等 电源类型直流磁控电源＋高压离子轰击电源 圆柱靶直流磁控靶（无氧铜靶＋不绣钢靶） 真空室结构立式双开门、立式单开门