特点：
广泛的应用于透明，半透明或不透明物质。大于3 微米小于20微米观察目标，比如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层等材料表面的结构、痕迹，都能有很好的成像效果。 主要技术参数：观察头部：B双目 30度倾斜 360度旋转  瞳距：35mm-75mm广角目镜：10X/Φ20mm平场物镜：10X 20X  40X 100X(S）oil总放大倍数：40x-1000X载物台尺寸：146mm* 140mm,移动范围：75mm  50mm调焦：粗微动同轴，升降范围25mm微动格值：0.002mm聚焦镜：：可调阿贝聚焦镜可变光阑 滤色底片光源：卤素灯85V-230V 12V20V，亮度可调