专业生产 物理气相沉积多弧离子镀膜设备 此设备广泛应用于手表、眼镜、通讯、电子、机械、装饰和交通航空等领域的高档装饰和功能性薄膜。 该设备的特点:
1、沉积速率快，温升小，能较好抑制打火及靶中毒现象；
2、溅射释放的高能量使膜层密度和附着力有显著提高；
3、触摸屏 PLC,可实现全自动控制，自动/手动随时切换；
4、镀膜室容积大，装载量大，生产效率高。
5、工件架采用公转结构，可设置自动正反转，产品均匀**好；
6、整机配置合理，抽气速率快，噪声小，耗能低；