SEF-G5：激光刻膜机 产品特点: 技术参数:型号规格SEF-G5有效加工幅面1.1m×1.4m（或635mm×1245mm ）运行速度 2000mm/s重复定位精度 ±10μm 刻线直线度   ±10μm / 1000 mm 典型刻膜线宽 30～60μm三线外沿总宽度300～500μm   选项和配件：高标配，可根据需要移除不需要的部件。 应用和市场：非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻线、切割），其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜）。 样品图片：
   l        半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器l        膜面朝上非接触式工作台l        直线电机驱动l        四路同步输出l        自动识别跟踪定位l        自动进出料l        在线监测l        静态显示  SEF-G5：激光刻膜机 产品特点: 技术参数:l        半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器l        膜面朝上非接触式工作台l        直线电机驱动l        四路同步输出l        自动识别跟踪定位l        自动进出料l        在线监测l        静态显示