真空磁控溅射镀膜机广泛应用于家电电器、钟表、灯具、工艺美术品、玩具、车灯反光罩、手机按键外壳以及仪器仪表、塑料、玻璃、陶瓷、磁砖等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。所谓“溅射”就是用荷能粒子（通常用气体正离子）轰击物体，从而引起物体表面原子从母体中逸出的现象，早在1982年Grove在实验室中就发现了这种现象。磁控溅射靶采用静止电磁场，磁场为曲线形，均匀电场和对数电场则分别用于平面靶和同轴圆柱靶。电子在电场作用下，加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，若电子具有足够的能量（约为30ev）时，则电离出Ar+并产生电子，电子飞向基片，Ar+在电场作用下，加速飞向阴极（溅射靶）并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。
本公司的磁控溅射镀设备有以下几大特点：1、膜厚可控性和重复性好，能够可靠的镀制欲定厚度的薄膜，并且，溅射镀膜可以在较大的表面上获得厚度均匀的膜层；2、薄膜与基片的附着力强，并且部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原子相互溶合的伪扩散层；3、可以制备特殊材料的薄膜，可以制膜层可以使用不同的材料同时溅射制备混合膜、化合膜，还可溅射成TiN仿金膜；4、膜层纯度高，溅射膜层中不会混入坩锅加热器材料的成份。
本公司拥有最完善的售后服务体系，使用本公司设备可免费提供技术工，操作工培训和最先进的生产工艺。
JN-CLD系列真空磁控溅射镀膜机型号及技术参数
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性能
型号 | JN-CLD-900 | JN-CLD-1000 | JN-CLD-1250 | JN-CLD-1400 | JN-CLD-1600 |
镀膜室尺寸 | Ф900×H1100mm | Ф1000×H1200mm | Ф1250×H1350mm | Ф1400×H1600mm | Ф1600×H1800mm |
电源类型 | 灯丝电源、脉冲偏压电源、直流磁控电源、中频磁控电源、射频磁控电源、线性离化源 |
真空室结构 | 立式双开门、立式前开门结构、后置抽气系统 |
真空室材质 | 优质不锈钢材质腔体 |
极限真空 | 6.0×10-4Pa |
抽气时间(空载） | 从大气抽至8.0×10-3Pa≤15分钟 |
真空获得系统 | 扩散泵或分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵（具体型号可根据客户的要求进行配置） |
镀膜方式 | 磁控溅射镀膜 |
制膜种类 | 金属膜、反应膜、化合物膜、多层膜、半导体膜 |
磁控靶类型 | 矩形磁控靶、圆柱形磁控靶、孪生磁控对靶 |
磁控电源功率及磁控靶数量 | 根据不同镀膜工艺和客户的需求进行选配 |
偏压电源 | 20KW/1台 | 20KW/1台 | 30KW/1台 | 40KW/1台 | 50KW/1台 |
工件转架转动方式 | 行星式公自转、变频调速（可控可调） |
工艺气体 | 3路或4路工艺气体流量控制及显示系统 选配自动加气系统 |
冷却方式 | 水循环冷却方式，另需配冷却水塔或工业冷水机或深冷系统。（客户提供） |
控制方式 | 手动/自动一体化方式、触摸屏操作、PLC或计算机控制 |
整机总功率 | 35KW | 40KW | 50KW | 65KW | 80KW |
报警及保护 | 对泵和靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警，并执行相应保护措施及电气联锁功能。 |
设备占地面积 | W2.5m×L3.5m | W3m×L4m | W4m×L5m | W4.5m×L6m | W5m×L7m |
其他技术参数 | 水压≥0.2MPa、水温≤25℃、气压0.5-0.8MPa |
备 注 | 镀膜设备的具体配置可根据客户的镀膜产品工艺要求进行设计。 |
