模切工程保护膜胶带

低污染特性的光学保护膜，采用了厚型的聚酯薄膜作为基材，以及低污染的再剥离型丙烯酸胶粘剂加工而成的光学保护膜。

• 特 点
  • 1000级洁净环境下加工，洁净度极优。
  • 低粘性， 贴附后经时粘着力变化小。
  • 再剥离后低污染、无残胶。
  • 采用厚的透明PET基材、适合于半冲切。

• 用 途
  • 光学薄膜、光学胶带模切载体。
  • PFC、PCB工程保护。
  • 手机镜片工程保护