CMP抛光液

一、应用领域

用于单晶硅、多晶硅、蓝宝石、液晶玻璃、镜头等抛光。

二、产品特点

1．采用严格的粒径控制工艺，具有纯度高、粒径均匀、易清洗、无橘皮、无雾化现象、抛光速率高、损伤层小等优点。

2．可直接稀释使用，对抛光设备无腐蚀。

三、性能指标

四、使用方法

1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。

2.稀释后，粗抛时调节pＨ至11左右，精抛时调节pH至9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。

3.循环抛光可以用原液。

五、包装及储存

1．采用聚乙烯塑料桶包装，主要包装规格有30Kg、250Kg。

2．贮存时应避免曝晒，贮存温度为0-40℃。

3．避免敞口长期与空气接触。