抽屉式UV光清洗机适用小型基片清洗，如液晶面板，ITO导电膜玻璃，光学玻璃，OLED，LCD，硅片，陶瓷，金属片，聚合物，硅胶等表面清洗，用于清洗产品的表面有机物，即进行表面改质，从而获得较好的亲水性。可提供客户化设计。BZZ250GF-TC

可选择清洗面积：6英寸-150*150mm，8英寸-200*200mm，12英寸-300*300mm，16英寸-400*400mm        

 产品配置

电源：220V；

灯管：特殊格册状石英灯管(GRID LAMP)，250W,寿命5000小时；

时间控制：0-99.99小时或分钟；

照射高度：20-100mm;

UV ON/OFF指示，异常指示/警报;

灯管预热：具灯管预热提示功能;

排风功能：自带抽风机；

应用领域

■在进行薄膜沉积之前进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。

■清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 GaAs芯片

■清洁焊剂，混合电路以及平板LCD显示器

■蚀刻特氟隆，氟橡胶以及其它有机材料

■增强GaAs 和Si氧化物钝化表面

■增强玻璃的除气作用

■基片蓝膜去除

■增强塑料表面的镀膜的粘附性

■基片终测后墨迹清楚

■去除光刻胶

■平板显示器/液晶显示器

■去除光刻机台上的光刻胶残留物

■在电路板封装和打片之前清洗）

■光纤

■增强表面亲水特性

■为生物科学应用做清洗和消毒

■光学透镜

■其它应用

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紫外光清洗工作原理  

VUC低压紫外汞灯能同时发射波长254nm和185nm的紫外光，这两种波长的光子能量可以直接打开和切断有机物分子中的共价键，使有机物分子活化，分解成离子、游离态原子、受激分子等。与此同时，185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和活性氧（O），这个光敏氧化反应过程是连续进行的，在这两种短波紫外光的照射下，臭氧会不断的生成和分解，活性氧原子就会不断的生成，而且越来越多，由于活性氧原子（O）有强烈的氧化作用，与活化了的有机物（即碳氢化合物）分子发生氧化反应，生成挥发性气体（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物体表面，从而彻底清除了粘附在物体表面上的有机污染物。 紫外光表面清洗原理表达式： 

低压紫外汞灯发射的185nm和254nm波长的紫外光除有清洗去除物体表面的有机污染物的功能外，而且还能够进行表面改质。其基本原理为：光子能量把物体的表层分子键打开的同时拉出H原子和C原子，与空气中的氧气分解出来的活性氧（O）生成极性很强的原子团（OH，CHO，COOH）即羟基等活性基，同时材料表面有机污染物的清洗效果显著，活化的基体表面具有良好的粘合力和键合特性，这些羟基和涂料、粘合剂、电镀材料相结合，形成新的化学键，从而使材料表面得到通常情况下得不到的很强的粘结强度，或者使材料得到稳定的表面性能。