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紫外臭氧清洗机HW200

紫外臭氧清洗机HW200适用于中小型生产和科研工作，用于清洗产品基片的表面有机物，即进行表面改性，表面张力变小，从而获得较好的个表面亲水性，其有效清洗尺寸为200mm*200mm（8英寸）。另外也可以根据客户需求设计清洗设备。

产品配置

电源：220V；有效清洗面积：200mm*200mm；

灯管：特殊格册状石英灯管，寿命3000-5000小时；

时间控制：0-99小时或分钟；

清洗托盘：清洗托盘高度可以手动任意调节；

进气口：可通过设备背面进气口输入所需气体；

排风功能：自带抽风机，可调节风速；

产品特点
◇大气中处理，简单方便，环保无二次污染，无需加热、药液等处理。
◇清洁度极高，单分子层以下，可以得到其它处理方法难以达到的清洁度、接着性。
◇国内独有的超高出力短波长紫外线光源，仅需短时间（秒单位）照射，发挥强大的处理能力。
◇不对材料的表面产生损伤。
◇相对于湿式清洗成本低。
◇没有液体表面张力的影响，超微细部的清洗容易。

产品应用
1液晶表示元件基板　　2记忆盘片　　　　　3 IC基板　　　　4压电元件
5 IC外装材　　　　　　6微电容器件　　　　7水晶振动子　　8石英玻璃.ITO玻璃
9光学器件　　　　　　10磁头及其挂钩件　11半导体晶片　12各种塑料表面
13各种金属表面　　　14各种橡胶　　　　15各种玻璃　16各种陶瓷表面……等等
各种固体表面除被清洗外，多种材料表面还被改性的表面具有更强的接着性能。

紫外光清洗工作原理   

VUC低压紫外汞灯能同时发射波长254nm和185nm的紫外光，这两种波长的光子能量可以直接打开和切断有机物分子中的共价键，使有机物分子活化，分解成离子、游离态原子、受激分子等。与此同时，185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和活性氧（O），这个光敏氧化反应过程是连续进行的，在这两种短波紫外光的照射下，臭氧会不断的生成和分解，活性氧原子就会不断的生成，而且越来越多，由于活性氧原子（O）有强烈的氧化作用，与活化了的有机物（即碳氢化合物）分子发生氧化反应，生成挥发性气体（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物体表面，从而彻底清除了粘附在物体表面上的有机污染物。   紫外光表面清洗原理表达式：

低压紫外汞灯发射的185nm和254nm波长的紫外光除有清洗去除物体表面的有机污染物的功能外，而且还能够进行表面改质。其基本原理为：光子能量把物体的表层分子键打开的同时拉出H原子和C原子，与空气中的氧气分解出来的活性氧（O）生成极性很强的原子团（OH，CHO，COOH）即羟基等活性基，同时材料表面有机污染物的清洗效果显著，活化的基体表面具有良好的粘合力和键合特性，这些羟基和涂料、粘合剂、电镀材料相结合，形成新的化学键，从而使材料表面得到通常情况下得不到的很强的粘结强度，或者使材料得到稳定的表面性能。