2013-2018年中国电子特种气体-三氟化氮（NF3）市场发展状况及投资前景预测报告
〖报告编号〗29593
〖释放日期〗2012年10月
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报告目录：
第一章 三氟化氮产品概述
第一节 电子特种气体——三氟化氮概述
第二节 三氟化氮的产业与市场简述
一、三氟化氮的应用领域
二、三氟化氮的市场简况
三、三氟化氮的产业简况
第三节 三氟化氮行业的特点
一、行业兴衰与半导体、光伏、液晶显示产业发展有着关系密切
二、三氟化氮产品优势得到发挥
三、市场垄断性强
四、近年全球三氟化氮应用市场在迅速扩大
第四节 在当前环境保护要求的形势变化下三氟化氮产品发展前景成为变数
一、三氟化氮成为气候变化新威胁UNFCC已将其列入“监管”气体之中
二、三氟化氮替代产品得到发展
第二章 2012年中国三氟化氮行业市场发展环境分析（PEST分析法）
第一节 2012年中国经济环境分析
一、国民经济运行情况GDP
二、消费价格指数CPI、PPI
三、全国居民收入情况
四、恩格尔系数
五、工业发展形势
六、固定资产投资情况
七、财政收支状况
八、中国汇率调整
第二节 2012年中国三氟化氮行业政策环境分析
第三节 2012年中国三氟化氮行业社会环境分析
一、人口环境分析
二、教育环境分析
三、文化环境分析
四、生态环境分析
五、中国城镇化率
六、居民的各种消费观念和习惯
第四节 2012年中国三氟化氮行业技术环境分析
第三章2012年中国电子特种气体、氟化工品应用市场
第一节 电子特种气体概述
第二节 电子特种气体制造中的主要技术方面
第三节 电子特种气体的纯净度要求
第四节 电子特种气体产品市场竞争的焦点问题
一、对电子特种气体杂质、纯度要求的问题
二、气体配送及供应问题
三、储存、使用中的安全性问题
四、成本性问题
第五节 国内外电子特种气体行业发展概述
一、境外电子特种气体生产与市场情况
二、国内电子特种气体行业及其发展
第六节 氟化工产业概述
一、氟化工产业中的重要产品
二、我国氟化工产业发展情况
第四章 2012年中国三氟化氮的主要特性
第一节 物理特性
第二节 毒性及危险性
第三节 反应性
第四节 相关的安全性
第五节 主要性能及标准
一、对纯度的一般质量指标要求
二、美国气体及化学产品公司的NF3的工业标准及产品不同等级标准要求
三、SEMI的三氟化氮标准
四、三氟化氮我国国家标准（GB/T 21287-2007）
第五章 2012年中国三氟化氮的主要生产工艺方法
第一节 NF3的制备方法
一、概述
二、直接化合法
三、氟和氟化氢铵法
四、电解法
第二节 NF3粗品纯化工艺加工
一、NF3粗品纯化工艺法的种类
二、低温精馏法
三、化学吸收法
四、化学转化法
五、选择吸附法
第三节 安全生产的问题
第四节 在半导体晶元工厂的供应系统
第六章 2012年中国三氟化氮的主要应用领域概述
第一节 概述
第二节 三氟化氮在集成电路中的应用
一、集成电路芯片制程
二、化学气相沉积和气体应用
第三节 作为清洗剂、刻蚀剂在半导体制造中的应用
一、替代PFC作为清洗剂
二、等离子增强化学气相沉积（PECVD）
三、在PECVD的干刻蚀、清洗加工中的应用
第四节 三氟化氮在液晶显示器中的应用
第五节 高纯NF3在薄膜硅太阳电池中的应用
一、非晶硅薄膜太阳能电池
二、Si薄膜的材料特性
三、非晶硅薄膜太阳能电池制作工艺及高纯硅烷其应用
第六节 用三氟化氮作氟化剂
一、六氟化钨的理化性质及用途
二、NF3是制造WF6
三、世界WF6 的生产现况
四、国内生产WF6的情况
第七节 三氟化氮作为氟源在化学激光器中应用
第八节 NF3在IC和TFT-LCD应用市场扩展的三阶段
第九节 NF3在不同应用领域中应用量的比例
第七章 世界及我国NF3的半导体市场调查与分析
第一节 世界半导体硅片生产与市场发展
一、世界半导体生产的现况
二、世界半导体硅片的生产状况
第二节 我国半导体晶圆生产与市场现况与发展
一、我国集成电路市场、产业发展现状
二、我国集成电路晶圆制造业情况
三、我国集成电路晶圆主要生产厂家情况
第八章 世界及我国NF3的液晶显示器市场调查与分析
第一节 世界平板显示器产业发展现况
第二节 我国平板显示器产业现况与未来发展预测
一、我国液晶显示产业发展概述
二、我国LCD面板生产现况与未来几年发展预测
三、我国发展平板显示产业的相关政策及未来发展的预测、分析
第九章 世界及我国NF3的薄膜硅太阳电池市场调查与分析
第一节 国内外光伏产业的发展
一、世界光伏产业的快速发展
二、我国光伏产业发展环境与现况
第二节 薄膜太阳能电池的生产与市场
一、薄膜太阳能电池特点及品种
二、薄膜太阳能电池未来市场发展前景
三、薄膜太阳能电池生产及在光伏市场上的份额变化
第三节 国内外薄膜太阳能电池的主要生产企业
一、境外薄膜太阳能电池生产厂家概况
二、国内薄膜太阳能电池生产厂家概况
第十章 2012年世界NF3的生产现状与发展
第一节 概述
第二节 世界三氟化氮生产现况
第三节 美国的NF3生产现状与厂家
一、美国AP公司
二、杜邦公司
第四节 日本的NF3生产现状与厂家
一、关东电化工业公司
二、三井化学公司
三、中央玻璃公司
第五节 韩国的NF3生产现状与厂家
一、AP公司韩国蔚山分厂
二、韩国SODIFF新素材有限公司
第六节 台湾的NF3生产现状与厂家
第十一章 2012年国内NF3的生产现状与发展
第一节 国内NF3生产的发展
第二节 国内NF3生产需求市场
第三节 国内NF3的主要生产厂家
一、国内NF3的生产厂家概述
二、中核红华特种气体股份有限公司
三、湖北沙隆达天门农化有限责任公司
四、中国船舶重工集团第七一八研究所
五、其它厂家
第四节 国内与NF3气体相关的科研、协会机构
第十二章 2013-2018年中国三氟化氮行业投资机会与风险预警
第一节 投资环境的分析与对策
第二节 投资机遇分析
第三节 投资风险分析
一、政策风险
二、经营风险
三、技术风险
四、进入退出风险
第四节 投资策略与建议
一、企业资本结构选择
二、企业战略选择
三、投资区域选择
第五节 专家投资建议
图表目录（部分）：
图表：2005-2012年中国GDP总量及增长趋势图
图表：2012年中国月度CPI、PPI指数走势图
图表：2005-2012年我国城镇居民可支配收入增长趋势图
图表：2005-2012年我国农村居民人均纯收入增长趋势图
图表：1978-2010中国城乡居民恩格尔系数走势图
图表：2010.12-2011.12年我国工业增加值增速统计
图表：2005-2012年我国全社会固定投资额走势图（2012年不含农户）
图表：2005-2012年我国财政收入支出走势图 单位：亿元
图表：近期人民币汇率中间价（对美元）
图表：半导体制造业用特种气体按其使用时的特性分类情况
图表：全球半导体工业用主要几种高纯度气体的市场规模变化情况
图表：氟化工产业链的构成情况
图表：NF3分子结构图
图表：SEMI标准中NF3中 CF4、CO2、N2O、SF6和 CO 的分析流程图
图表：气-固反应器图
图表：气-液反应器图
图表：气-液反应法的生产流程图
图表：电解槽结构图
图表：低温精馏过程示意图
图表：色谱分离气体流程图
图表：典型半导体晶元工厂的特气供应系统流程图
图表：三氟化氮的主要应用领域
图表：IC硅片制造前工程的过程
图表：各种CVD法反应装置的原理
图表：PECVD装置
图表：三氟化氮在半导体芯片加工制造环节中的应用示意图
图表：TFT 阵列构成
图表：等离子体CVD加工工序及SiH4等电子特气的供应系统
图表：所示了采用等离子体CVD法制作TFT阵列的实际装备例
图表：TFT 阵列形成过程及NF3在采用等离子体CVD法形成TFT 阵列形成中作用
图表：Si基薄膜的种类、特征及晶体结构
图表：Si基薄膜太阳能电池的基本结构
图表：非晶硅薄膜太阳能电池制作工艺过程
图表：NF3不同应用领域中应用量的比例
图表：2009-2014全球半导体市场规模和年增幅统计预测
图表：世界不同直径尺寸硅片市场发展趋势
图表：2001-2010年全球硅片出货量变化率
图表：2001-2010全球硅片销售收入变化率
图表：全球硅片出货量按尺寸计预测
图表：2007-2011年我国半导体及集成电路产销情况
图表：2009-2011年我国集成电路晶圆业发展规模
图表：我国主要集成电路晶圆的生产厂家分布情况
图表：2008年-2013年世界液晶显示器面板出货量统计及预测
图表：2009-2011年平板电视在世界主要国家、地区的普及情况
图表：2005-2013年我国LCD面板的市场规模统计、预测
图表：我国TFT-LCD面板的产能统计及未来几年发展预测
图表：2005年—2014年我国TFT-LCD面板各代线在国内总产能的比例变化
图表：我国主要集成电路晶圆生产厂家分布情况
图表：全球光伏市场构成
图表：2007-2011年全球及我国光伏市场规模变化
图表：2011年全球各主要国家及地区光伏发电安装量的份额
图表：2011年全球主要电池组件企业市场份额分布情况
图表：2004年至2011年世界NF3实际生产量及生产能力的统计
图表：2005年至2011年世界NF3实际生产量及生产能力年增长率变化
图表：2011年 世界主要生产企业NF3产品的市场份额
图表：世界NF3主要国家、地区的生产产能及产能占世界总产能比例
图表：日本1999年-2010年的NF3实际产量（国内部分）统计
图表：我国NF3气体市场需求量的统计及预测
图表：电子特种气体的主要品种及分类
图表：常见的电子特种气体不同纯度要求的分类
图表：国外主要大型电子特气企业在主导生产工艺路线及所达到纯度的情况
图表：NF3物理性质
图表：4N高纯NF3的主要质量指标要求
图表：AP公司的NF3的工业标准
图表：AP公司四个等级的NF3技术标准指标要求
图表：SEMI标准中规定的NF3的物理常数值
图表：SEMI标准中的技术要求和化学技术要求
图表：三氟化氮国标标准（GB/T 21282007）的情况
图表：GB/T 21282007中规定的三氟化氮的技术指标
图表：GB/T 21282007中的三氟化氮的主要物理参数
图表：NF3的各种制备方法及其采用主要生产厂家
图表：2010年世界主要大型半导体厂家的销售收入统计
图表：2002-2010年世界硅片出货量及销售收入情况
图表：SEMI对世界硅片的出货量的统计及预测
图表：硅片尺寸﹑质量要求与所对应的集成电路工艺技术的发展
图表：2006-2010年我国国内半导体级晶圆产量变化统计
图表：我国集成电路晶圆制造业在半导体产业中占有的比重情况
图表：2000年-2010年我国晶圆生产线建线增长情况
图表：我国集成电路晶圆制造6英寸以上生产线产能和工艺技术水平情况
图表：至2011年底我国主要集成电路晶圆的生产厂家产能情况
图表：LCD中下游市场的划分
图表：全球平板显示器在不同应用的需求市场的规模
图表：2013年全世界G5以上TFT-LCD产能比较
图表：我国TFT-LCD液晶面板线分布
图表：我国主要集成电路晶圆的生产厂家产能情况（至2011年底）
图表：2011年全球各主要国家及地区光伏发电安装量统计
图表：2011全球主要电池组件企业产能产量情况
图表：2007-2011年我国太阳能电池出口情况
图表：2007-2011年我国太阳能电池进口情况
图表：近几年全球薄膜太阳能电池产量及市场份额
图表：国外主要薄膜太阳能电池生产厂家
图表：境外薄膜太阳能电池生产厂家情况
图表：我国国内薄膜太阳能电池生产厂家的情况
图表：2011年世界NF3主要生产企业的产能、产量情况
图表：国内三氟化氮主要生产企业及产能情况（以2011年为计）
图表：在我国国内与NF3气体业相关的协会机构
图表：我国开展过对NF3气体研究的相关科研单位
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