北京冠金利新材料科技有限公司为您供应高纯铝靶材及铝的相关镀膜产品，主要包括：
1、 高纯铝靶:本公司供应适合于辉光放电溅射、射频辉光溅射、磁控溅射、离子束溅射、离子镀用的高纯铝靶材。
2、 高纯铝靶材纯度为：99.9%，99.99%，99.999%，99.9999%。
3、 高纯铝靶材的规格：（1）平面靶材如Ø100*5mm平面高纯圆铝靶，150*100*3平面高纯板铝靶材，（2）磁控溅射用高纯铝靶：Ø100*120柱靶等。
4、 高纯铝靶的原材料生产工艺：真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等。
5、 高纯铝靶材加工工艺：车，铣，等。
6、高纯铝靶材相关参数的介绍：外观：银白色 密度：2.70 g/cm3 熔点：660℃沸点：2463℃。以上是北京冠金利新材料科技有限公司对高纯铝靶的相关介绍，高纯铝靶材规格尺寸可根据客户要求定做，也可按图纸加工，如有疑问，请来电咨询！
1、 北京冠金利新材料科技有限公司长期为您供应高纯氧化铝靶材，高纯氧化铝靶，氧化铝粉末，高纯氧化铝颗粒，高纯氧化铝压片等相关产品，相应产品规格如下：
2、 高纯氧化铝粉末：纳米级高纯氧化铝粉末，微米级高纯氧化铝粉末等。
3、 高纯氧化铝靶的常用尺寸为：Ø76.2*5、Ø100*4等。
4、 高纯氧化铝颗粒：1mm-3mm,3mm-5mm,5目-1300目等尺寸，，高纯氧化铝晶体颗粒，分为透明晶体，半透明晶体，乳白色晶体。
5、 高纯氧化铝压片：常用高纯氧化铝压片尺寸有Ø10*6，Ø10*8，Ø8*6等。
6、 高纯氧化铝相关参数简介：纯度：99.9%-99.999%
7、 外观： 无色透明颗粒 ，白色粉末,分子量： 101.96,密度3.97 g/cm3 熔点：2040℃沸点：5500℃
8、 蒸汽压力：在1900℃时 1 Pa 在2200℃时 10 Pa 线膨胀系数： 6.1×10-6/K ,比热 (27℃)： 0.78 J/gK
9、 硬度(摩氏)： 9 (克氏)1370 Kg/mm2 蒸发温度 ：2000 ～2200 ℃蒸发速率 ：1 nm/s 氧分压 ：10-2 Pa 透明波段：200～5000 nm 折射率 （500nm） ：1.5~1.64 蒸发条件：电子枪蒸发
10、 应用领域：增透膜、多层膜，干涉膜，保护膜等
11、 冠金利其它高纯镀膜材料及靶材：
各种高纯度金属单质包括金属粉、金属颗粒、金属丝、金属块、金属片等。产品包括：纯铁，铜，铝，铅，锌，镍，锡，钴，铬，钒，锰，镁，镉，铋，锑，钛，锆，铪，铟，硒，碲，镓，锗，铼，钨，钼，钽，铌，硼，硅，铍，砷，贵金属等的锭，棒材，丝材，板材，带材，箔材，颗粒，粉末。
各种高纯金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、镀膜材料。金属靶材：铝靶Al、银靶Ag、钴靶Co、铬靶Cr、铜靶Cu、镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶Zr、钛铝靶Ti、锆靶Zr、钽靶Ta、锗靶Ge、硅靶Si、钨靶W、铪靶Hf、钆靶Gd、钐靶Sm、镝靶Dy、铈靶Ce、钇靶Y、镧靶La 金靶Au 等。
合金靶材：钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al 、 铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。
陶瓷靶材
ITO靶、氧化镁靶、二氧化铪靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、等陶瓷靶材。产品通过各种方法（磁控溅射、真空镀等）应用真空镀膜的各种领域：科学研究，航天航空，汽车，微电子，集成电路产业，光源，光学，装饰，平面显示器产业，信息存储产业，数据存储等等。
注所有产品规格可根据客户要求定做。
