STP-iX455涡轮分子泵具有创新性磁力轴承和电机驱动系统，与上一代涡轮泵相比将振动降低了50%。采用集成的控制器，不需要使用传统的安装于机架上的控制器及互连电缆，不需要水冷却。
此泵的氮气抽速为450 ls-1。STP-iX455极为适合电子显微镜、度量学、光刻和其他对振动敏感的应用。

应用

• 金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
• 电子回旋共振(ECR)刻蚀
• 薄膜沉积CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
• 溅射
• 离子注入源，射束线泵送端点站
• MBE
• 扩散
• 光致抗蚀剂脱模
• 晶体/晶膜生长
• 晶片检查
• 负载锁真空腔
• 科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
• 高能物理：射束线、加速器
• 放射线应用：融合系统、回旋

功能和优势              

• 紧凑型设计，包括完全集成的控制器
• 创新性自传感轴承系统
• 数字化5轴控制
• 与现有涡轮泵相比振动级别降低了50%
• 可以配置为运行腐蚀性制程
• 自动平衡系统(ABS)标准
• 自动减振(AVR)标准
• 列于UL中，具有CE标记，符合SEMI® S2