光清洗灯

一、光清洗的特点

1、可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。                 

2、可彻底清除物体表面的碳和有机污染物。

3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。

4、保证产品的高可靠性和高成品率。

5、产品表面清洗处理的均匀度一致。

氧化的表面不宜用光清洗方法，只适对表面污垢清洗、不适对污垢量较多，无机类污垢清洗。

6、由于光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物，所以容易发生

二、光清洗的技术应用范围

    主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法最为合适。

    主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和 带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。

    可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。