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　　仅仅有前述的TFT液晶显示屏是无法实现显示的，必须配上提供扫描信号和数据信号的驱动集成电路以及组装有控制电路等PCB板的集成电路模块；由于液晶本身并不发光，为此必须加上背光源，随后将这些部件连同已经封装了液晶的显示屏组装成显示模块。
　　为了实现彩色TFT-LCD显示，利用彩色滤色片，产生红（R）、绿（G）、蓝（G）3种原色，再合成为彩色显示。为此需要采用白光的背光源，而每个图像像素需要包含红红（R）、绿（G）、蓝（G）3个子像素点，分别与上层玻璃基板的彩色滤色膜相对应。于是一个分辨率为，n×m，即具有n行、m列显示像素的TFT-LCD屏实际上包含nX3m个像素。例如，对于600X800的SVGA显示，TFT-LCD屏上包含的像素数为600X800XRGB=600X2400。根据彩色滤色膜的排列方式不同，可以分为条形、马赛克形、Delta形等多种类型。其中条形结构最为简单，易于设计、制备和驱动，但是其显示质量差。马赛克形的彩色质址好，但是由于同一条信号线上对应于不同的显示行将循环传送R、G、B3种不同的图像信号，其像素的驱动复杂，滤色膜的制备困难。Delta形通过复杂的矩阵设计使上、下两行显示像素交错，信号线弯曲，实现了同一条信号线上传输同一种彩色信号，从而使像素驱动简单，获得很好的彩色显示质量，但滤色膜的制备困难。
　　另一方面，由于彩色TFT模块是光敏器件，光照将严重影响TFT的特性，使开关特性失效，为此在TFTLCD显示中必须对其中的有源器件TFT进行全面的遮光。在TFT阵列基板上，如果采用倒栅TFT结构，由于金属栅电极本身不透光，所以可以直接利用倒栅遮挡住背光源对沟道试域的照射，而无需制备额外的遮光层；但是对于顶栅结构的TFT这必须制备遮光层以遮挡背光源的照射，同时在彩色滤色膜的彩色像素周围需要制备不透光的黑矩阵（BlackMatrix,BM），以遮挡像素间的杂散光，从而减少光照对TFT性能的影响。由于黑矩阵位于上层彩色滤色膜基板上，为了可靠遮挡光对下层TFT的照射，必须考虑制备工艺中带来的对准误差，因此需要留出一定的冗余，这样真正有效的显示面积将进一步降低，影响开口率的提高。通常采Cr和CrQ2的双层膜以减少光的反射。在BM制备完成后再进行彩色滤色膜的制备，随后淀积保护膜和ITO透明公共淀积，最后进行取向处理。由于Cr对环境有一定的污染，并且制备工艺较复杂，目前逐渐被黑色树脂材料所替代。采用黑色树脂制备黑矩阵可以利用光刻工艺一步完成，降低了工艺复杂性，减少了对准误差，可以实现较高的开口率。

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