具有颗粒稳定、粒径分布窄等特点。
纳米颗粒砂磨机具有特点如下:
1、
使用全陶瓷结构及高质量的材料(钇稳定氧化锆、碳化硅)保证了无金属污染和更长的寿命。
2、
专利的涡轮式分散器确保了研磨珠的高能量,均匀运动,保证了高效。
3、 高效的能量转换有效降低了能耗。
4、
专利的片式分离筛圈结构及其特殊的不堵塞设计,可使用0.1-1mm的研磨珠,分离可靠性高,安装方便,维护简单。
5、
通道式和循环式生产工艺,连续不断的高效能实现了粒径分布最窄。
6、 理想的冷却效果保证了对温度敏感的物料的顺利研磨。
7、
优化的设计更加方便操作。
8、
智能化操作系统更加科学记录运行参数和确保生产的顺利实施。
为了配合不同行业及企业的不同需求,我司配套生产各型号分散机、液压三辊机、砂磨机、球磨机、乳化机、反应釜、拉缸等化工设备及化工周边辅助设备,从实验室型到中式、量产设备,品种齐全,
同时可根据客户生产工艺需求提供一体化的解决方案及完善周到的服务。
本设备研磨腔所有配置单元——研磨缸,分散盘,衬套,压盖,前后盖封板,出料筛圈等全部为钇稳定氧化锆(YZr)组成,高耐磨,无污染。研磨盘有极高的线速度,(最高达到25米每秒),配置极小的研磨微珠(最小可以为0.2mm),高效的研磨系数,使得产品达纳米的细度(最高达50纳米)。采用筛圈的分离作用,使物料和介质在研磨筒的尾端产生分离,后出料。
本设备为湿法分散、研磨工艺设备,尤其在超微粉材料的制造及应用上效果甚优。可为以下行业提供湿法分散、研磨工艺解决方案
1)印刷油墨
2)喷墨打印油墨
3)电子浆料
4)涂料和清漆
5)化妆品
6)高端颜料
7)制药
8)造纸材料(重质碳酸钙湿法加工)
9)光纤材料
10)陶瓷材料(氧化铝、氧化锆、氧化硅等)
11)金属涂膏(导电性材料),包括:绝缘涂膏、用于电容器生产的涂膏、印制电路板(PCB)
以及使用于要求环保的各类纳米材料的超细粉碎研磨公益项目上。
设备特点
1)无污染:本设备研磨腔所有配置单元——研磨缸、分散盘、衬套、压盖、前后盖封板、出料筛圈等全部为钇稳定氧化锆(YZr)或者碳化硅(Sisic)组成,可根据客户的需求选用不同材料的配置,高
耐磨、无污染,特别是无金属污染。
2)高效:采用特殊结构的研磨分散器结构,配置极小的研磨微珠(最
小可以为0.1mm),高效的研磨系数,使得产品达纳米的细度(最高达50纳米)。
3)颗粒分布范围窄:特殊的研磨原理以及出料结构,可保证物料颗粒分布均匀,D50颗粒在90%以上。
4)损耗小:采用全封闭结构以及高效的冷却系统,在研磨溶剂介质物料时损耗非常小。
技术参数:
机型 参数 | BYZr-2.5 | BYZr-5 | BYZr-15 | BYZr-20 | BYZr-30 | BYZr-50 | 主机电机功率(KW) | 4 | 11 | 22 | 22 | 30 | 37 | 冷却泵电机功率(HP) | 1/2HP×1 | 1/2HP×2 | 筒体容积(L) | 2.5 | 5 | 15 | 20 | 30 | 50 | 分散盘转速(r\min) | 2800 | 2500 | 2300 | 2300 | 2300 | 2000 | 分散盘圆周速(m/s) | 20 | 18~25 | 分散盘数量(个) | 6 | 6 | 7 | 8 | 10 | 12 | 进出口水管径 | G3/4″ | 1″ | 1″×11/2″ | 2″ | 2″ | 物料进出口管径 | G3/4″ | G3/4″ | G1″ | G1″ | 粘度Pa·s | 研磨介质粒径 | ≤104 | (Ø0.2—0.6)(含锆95%的纯锆球) | 研磨介质装填量 | 筒体容积的50%-60% | 进料能力(L/min) | 2—16 | 3—24 | | | | | | | | |
规格尺寸: 规格 尺寸 | BYZr-2.5 | BYZr-5 | BYZr-15 | BYZr-20 | BYZr-30 | BYZr-50 | A | 实验室用 | 1000 | 1300 | 1400 | 1500 | 1600 | B | 830 | 930 | 930 | 930 | 1000 | C | 1300 | 1600 | 1600 | 1600 | 1600 |
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