北京冠金利新材料科技有限公司长期为您供应高纯铜，高纯铜靶，高纯铜靶材，铜靶材及其相关产品，产品如下：

1、高纯铜靶：平面靶常用规格如圆铜靶Ø76.2*5板靶：400*100*10 ，2、高纯铜靶磁控旋转柱靶，如Ø65*80等。

3、高纯铜靶纯度为99.95%-99.9999%。

4、高纯铜靶产品通过各种方法（磁控溅射、真空镀等）应用真空镀膜的各种领域：科学研究，航天航空，汽车，微电子，集成电路产业，光源，光学，装饰，平面显示器产业，信息存储产业，数据存储等等。

5、蒸发镀用高纯铜丝、高纯铜颗粒、高纯铜柱(3*3mm\6*6mm\2*10mm)等

6、各种规格尺寸可根据客户要求定做，也可按图纸加工。

北京冠金利新材料科技有限公司高纯单质溅射靶材

高纯铝靶材Al 高纯铜靶材Cu 高纯铁靶材Fe 高纯钛靶材Ti 高纯镍靶材Ni

高纯镁靶材Mg高纯铬靶材Cr 高纯锌靶材Zn 高纯银靶材Ag 高纯钴靶材Co

高纯铌靶材Nb 高纯锡靶材Sn 高纯铟靶材In 高纯锆靶材Zr 高纯钽靶材Ta

高纯锗靶材Ge 高纯硅靶材Si  高纯钨靶材W 高纯铪靶材Hf 高纯钇靶材Y

高纯钆靶材Gd 高纯钐靶材Sm 高纯镝靶材Dy 高纯铈靶材Ce 高纯镧靶材La

高纯金靶材Au 高纯不锈钢靶材 高纯石墨靶材C 高纯硒靶材Se高纯钼靶材Mo

高纯铂靶材Pt 高纯铅靶材Pb   高纯镨靶材Pr  高纯铽靶材Tb 高纯钬靶材Ho

高纯镱靶材Yb 高纯铥靶材Tm 高纯镥靶材Lu  高纯铒靶材Er 高纯钪靶材Sc

以上是北京冠金利新材料科技有限公司单质溅射靶材种类，根据金属靶材种类的不同，靶材所能达到的最高纯度也不相同，纯度一般为99.9%-99.9999%之间，根据溅射设备的不同，以上靶材常用形状规格有圆靶、板靶、旋转柱靶、旋转管靶、圆台靶、阶梯靶等，可根据您的要求定做，如果您有以上靶材需要，请来电咨询，我们会用诚信和品质给您一个满意的答复。