1、大面积离子放电，离化效应高, 提高结合强度，附着力特强。
2、离子分布均匀,大大地改善膜层的稳定性和均匀性。
3、离化效应好,不需加温直接镀制膜层,去掉传统的加热装置，节电30%以上，镀膜时间节省10%以上， 提高工效，实现低温镀膜。
4、发挥离化效应，无论是金属镀件、有色金属制品还是非金属镀件直接镀膜。
5、离化效应好,无论是不锈钢制品还是各类有色金属制品(如铜、铝、锌、镁等)不需水镀直接镀制膜层。
6、是在大型板材、管材上镀制各类装饰膜层及功能膜膜层的必选设备。
备注：此类设备真空室最大能做到φ5000X10000MM（长）