石英坩埚技术参数:
Sio2(wt%) |
≥99.5-99.8 |
体积密度(g/cm3) |
≥1.85-2.0 |
显气孔率(%) |
≤5-15 |
常温耐压强度(Mpa) |
≥50-120 |
常温抗弯强度(Mpa) |
≥25 |
高温抗弯强度(Mpa) |
≥28 |
热膨胀系数(×10-6K-1) |
<0.6 |
热传导率(W/m.℃) |
0.66 |
1.石英坩埚可在1650度以下使用,分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单
2.晶硅,是发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今,世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明石英坩埚。它具有高纯度、耐温性强、尺寸大、精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。
2、不能和HF接触,高温时,极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐反应。
3.石英坩埚适于用K2S2O7,KHSO4作熔剂熔融样品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔剂处理样品。
4.石英质脆,易破,使用时要注意。
5.除Hf外,普通稀无机酸可用作清洗液。
产 品 用 途 :电弧石英坩埚适用于拉制单晶硅等,发展大规模集成电路必不可少的基础材料。
坩埚材料:电弧石英坩埚的原料选用进口优质石英粉,其二氧化硅含量在99.9985%以上。
产品规格:我公司目前可生产18英寸--24英寸规格的产品。
产品特点:高纯度、耐温性强、尺寸大、精度高、保温性好、节约能源、质量稳定