型号:XD-1200VCB 1200度井式坩埚炉
由石英坩埚(或氧化铝坩埚)和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片;也可用于烘烧或烧结陶瓷材料
型号 | XD-1200VCB |
炉膛尺寸 | 外径205×内径190×高340mm |
最高温度 | 1200℃ |
工作温度 | 1100℃ |
控温方式 | 智能化30段可编程自动控制 |
加热元件 | 含钼电阻丝 |
炉膛材料 | 氧化铝纤维 |
炉壳 | 双层风冷结构 |
热电偶 | K分度 |
升温速率 | ≤20℃/分钟 |
恒温精度 | ±1℃ |
最大真空度 | -0.1MPa |
额定功率 | 3KW |