【专业生产】真空中频磁控溅射镀膜设备 中频磁控镀

技术种类：物理气相沉积磁控溅射（Physical vapor deposition magnetron sputtering)

适用材料：在ABS, PP 等一次性餐具上

膜层种类：不锈钢膜层

设备尺寸：根据客户要求，可设计各种尺寸的生产单室单门，单室双门，双室设备

控制系统：PLC控制系统（自动、手动可选）

电源：DC磁控溅射电源

设备颜色：可供客户订制

镀膜周期：10-15分钟

操作人员：2-3名

每小时电耗：约40KW

制作材料：碳钢或者不锈钢

工艺气体：氩气

配套工程：压缩空气、冷却水

占地面积：3*4*3m（长*宽*高）