专业生产 PVD 手机面板镀膜系统 

产品特点:

该机型在多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶，设备具备离子镀的高离化率、高沉积速度的特点，同时也具备磁控溅射低温、稳定的优点，适合镀各种复合膜层，可以做到多复合膜层一次性完成，膜层具有很高的结合力、硬度、耐磨系数，特别适合手机、钟表、五金刀具、工艺品厂家的IPG、IPS、刀具搀杂、复合膜层的制备。

技术种类：物理气相沉积磁控溅射（Physical vapor deposition ion deposition)

适用材料：金属

设备尺寸：根据客户要求，可设计各种尺寸的生产单室单门，单室双门，双室设备

控制系统：PLC控制系统（自动、手动可选）

电源：离子电源，偏压电源

设备颜色：可供客户订制

操作人员：1名

每小时电耗：约40KW

制作材料：碳钢或者不锈钢

工艺气体：氩气，（氮气）

配套工程：压缩空气、冷却水

占地面积：3*4*3m（长*宽*高）