【专业生产】磁控溅射镀膜设备(用于塑料, 玻璃, 陶瓷产品)
这是一种多功能、高效率的镀膜设备。可根据客户的要求配备旋转磁控靶。中频挛生靶，平面靶，偏压电源等，用途广泛，主要用于金属和非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）的产品上镀制造。铜、铝、铭、银、钛和不锈钢的金属膜或氧化膜氮化膜，可广泛用于电器、钟表、工艺装饰品、玩具、工模具及塑料一次性餐具等表面功能膜层。
技术种类：物理气相沉积磁控溅射镀（Physical vapor deposition magnetron sputtering)
适用材料：玻璃，陶瓷，铝
镀膜原材料：不锈钢，铝，铬
设备尺寸：根据客户要求，可设计各种尺寸的生产单室单门，单室双门，双室设备
控制系统：PLC控制系统（自动、手动可选）
电源：磁控溅射电源
设备颜色：可供客户订制
镀膜周期：10-15分钟
操作人员：2-3名
每小时电耗：约40KW
制作材料：碳钢或者不锈钢
工艺气体：氩气
配套工程：压缩空气、冷却水
占地面积：3*4*3m（长*宽*高）
