【专业生产】 真空磁控溅射镀膜设备

此设备广泛应用于手表、眼镜、通讯、电子、机械、装饰和交通航空等领域的高档装饰和功能性薄膜。

主要特点：       

1、沉积速率快，温升小，能较好抑制打火及靶中毒现象；

2、溅射释放的高能量使膜层密度和附着力有显著提高；

3、触摸屏+PLC,可实现全自动控制，自动/手动随时切换；

4、镀膜室容积大，装载量大，生产效率高。

5、工件架采用公转结构，可设置自动正反转，产品均匀**好；

6、整机配置合理，抽气速率快，噪声小，耗能低；

基本配置：

1、镀膜室、阀门、管道均采用不锈钢制造，立式、双室结构，真空室有效直径自Φ1600mm～Φ2000mm；；

2、真空系统由机械泵、旋片泵、罗茨泵和带冷阱高真空油扩散泵或分子泵组成；

3、镀膜系统采用2～8套平面靶或柱靶，配有2～8个直流电源或中频电源；

4、辅助抽气系统采用一台低温水汽捕集器；

5、充气系统采用1～4路气体流量计及流量控制（显示）仪控制；

6、电控系统设置电路过载、断水、断气声光报警装置；

7、控制系统（触摸屏+PLC），实时显示详细参数，全自动控制整个生产过程，并自动存储工艺参数。

8、可根据客户要求配多套靶源。