【专业生产】磁控蒸发镀膜设备 真空离子镀膜
该设备是一种多功能、高效的镀膜设备。可根据用户要求配置旋转磁控耙、中耙孪生溅射耙、非平衡磁控溅射耙、直流脉冲叠加式偏压电源等，组态灵活、用途广泛，主要用于金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件镀铝、铜、铬、钛金、银及不锈钢等金属膜或非金属及渗金属DLC膜，所镀膜层均匀、致密、附着力强等特点，可广泛用于家电电器、钟表、工艺美术品、玩具、车灯反光罩、手机按键外壳以及仪器仪表等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。
技术种类：物理气相沉积离子镀（Physical vapor deposition magnetron sputtering)
适用材料：塑料
镀膜原材料：铝
设备尺寸：根据客户要求，可设计各种尺寸的生产单室单门，单室双门，双室设备
控制系统：PLC控制系统（自动、手动可选）
电源：磁控溅射电源
设备颜色：可供客户订制
镀膜周期：10-12分钟
操作人员：2-3名
每小时电耗：约40KW
制作材料：碳钢或者不锈钢
工艺气体：氩气，（氮气）
配套工程：压缩空气、冷却水
占地面积：3*4*3m（长*宽*高）
