产品说明书
迪纳科以化学共沉淀高纯AZO纳米粉体为原料，采用目前国际的专利技术-真空DCC成型+纯氧气氛烧结技术进行AZO陶瓷靶材的生产.这一技术的应用突破了AZO产品形状尺寸的限制也保证了公司生产的AZO陶瓷靶材的超高密度以及极其均匀的单相结构，材料晶粒发育完整，内部微观结构均匀且缺陷更少，材料的体密度差异性小于0.1%，耐热冲击性能更好，磁控溅射时更能经受大功率溅射，同时由于无氧原子缺乏膜层透过率更高等优点，所制造的AZO溅射靶材综合性能比传统的冷-热等静压制造技术更为优良，也达到了目前国际AZO溅射靶材的最高质量水平。
1．铝掺杂氧化锌溅射靶材
铝掺杂氧化锌溅射靶材 |
相对密度 | + 99%（+5.5g/cm3） |
电阻率 | ≤1.0×10-3Ω.cm |
外观颜色 | 深绿色 |
纯度(Al2O3+ZnO＞99.99%) |
杂质(PPM Max.) |
杂质名称 | 含量 | 杂质名称 | 含量 |
K | 3 | Co | 4 |
Ca | 6 | Ni | 2 |
Na | 4 | Sb | 3 |
Mg | 5 | Sn | 3 |
Cu | 3 | Mn | 4 |
Fe | 8 | Mo | 3 |
Pb | 9 | Cr | 8 |
As | 5 | | |
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2. 迪纳科AZO材料的扫描电镜照片
3． AZO平面靶材:
相对密度+ 99%（+5.5g/cm3）
尺寸600*300mm*20mm
电阻率:≤1×10-3Ω.cm
成份组成按照客户要求，相对密度+99%（+5.5g/cm3），体电阻率≤1×10-3Ω.cm，单片最大尺寸600*300mm*20mm，提供帮定支持。
4. AZO膜层性能数据参考（镀膜设备：MIS-560B直流磁控溅射仪）
温度(℃) | 气压(Pa) | 靶材与基底间距(cm) | 功率密度(w/ cm2) |
300 | 0.8 | 4.5 | 2.8-3.0 |
溅射 | 溅射过程稳定性( OK) |
检查项目 | 厚度（nm） | 方阻 (Ω/□) | 电阻率（Ω.cm） | 平均透过率(% ) |
1 | 168 | 95 | 1.6×10-3 | 83.9 |
2 | 370 | 27 | 9.99×10-4 | 82.5 |
3 | 480 | 20 | 9.6×10-4 | 82.1 |
4 | 598 | 12 | 7.17×10-4 | 81.9 |
5 | 780 | 9 | 7.02×10-4 | 82.3 |
6 | 953 | 5 | 4.7×10-4 | 83.2 |
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5．膜层率透过曲线
