仟净公司厂家直销太阳能光伏行业用超纯水设备、高纯水设备、去离子水设备、倍尔净品牌
半导体原材料清洗用纯水设备、超纯水设备、简介
半导体清洗超纯水设备水质标准：
半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
半导体清洗超纯水设备制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥16MΩ.CM）(最新工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）(最新工艺)
半导体清洗超纯水设备应用场合：
☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 ☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏
☆高品质显像管、萤光粉生产
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料
☆实验室和中试车间
☆汽车、家电表面抛光处理
☆光电产品、其他高科技精微产品
仟净公司是一家集研发、生产、制造、销售、服务于一体的一般纳税人生产型企业，长期致力于反渗透纯水处理设备、半导体清洗去离子水设备、全自动软水器、超纯水设备、去离子水设备、中水回用设备及生活污水设备，积累了丰富的设备生产、施工经验，泉特公司提供项目策划、咨询服务、规划设计、制造安装、维修保养等全方位的服务。倍尔净系列半导体清洗去离子水设备 半导体产品在生产工艺中，对水的纯洁度要求非常高，一般要求15兆欧以上。针对高纯度水质的要求去离子水设备达到相关行业标准的水质（15-18.2 MΩ.CM），倍尔净去离子水设备尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量。在工艺上，倍尔净系列半导体清洗去离子水设备取市政自来水为源水，通过预处理、RO反渗透、EDI电除盐系统、核级交换混床系统等处理工艺的有机结合，末端用水水质可以使产水电阻值达到18.2 MΩ.CM。 半导体清洗去离子水设备典型工艺： 预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18.2MΩ.CM） 预处理－一级反渗透－加药设备（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线杀菌器－抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18.2MΩ.CM） RO、 EDI、树脂离子交换是当今制备纯水的必选工艺设备。其中RO反渗透是当今一项最实用的膜分离技术，是依靠反渗透膜在压力下使溶液中的溶剂与溶质进行分离的过程。可有效地去除水中的重金属离子、盐类、细菌等，去除率达到98%以上； EDI连续电除盐设备ConRinuous ElecRro deionizaRion（电解式连续去离子）为模块式设备，可根据需要任意组合，该系统不需要停设备再生，无需酸碱，因此废水排放问题也得到解决，更符合环保要求。EDI装置现已应用在半导体、电厂、电子、制药、实验室等领域制备高纯水。MB核级抛光树脂一般用于超纯水处理系统末端，来保证系统出水水质能够维持用水标准，一般出水水质都能达到18兆欧以上，以及对TOC、SIO2都有一定的控制能力。可将水的电阻值由16MΩ/cm提升至18.2MΩ/cm。
