新型的重氮片PhotomaskXtraTough?(IMD-XT)是一种高耐久性的、半光泽面的、对紫外光敏感的正性工作感光重氮片。它可以从优质的银盐母片中拷贝出相同尺寸的重氮曝光底片。PhotomaskXtraTough?(IMD-XT)重氮片乳剂层具有更加卓越的抗刮伤和防腐蚀性能(主要来自绿油及其清洁剂)。很多制程中无须贴保护膜。
IMD-XT的感光膜是由重氮盐、染色偶合剂、酸性稳定剂涂抹在0.18-mm(7-mil)的聚酯基料上构成的。通过紫外光线曝光,重氮盐被分解。未曝光部分在接着的热氨气显影过程中把酸性稳定剂中和,并且触发了和染料偶合剂的化学作用,从而产生紫外线密度很高的彩色图像。
特性 ·比以往的重氮片具有更好的抗刮伤性能。 ·比以往的重氮片具有更强的抗化学腐蚀性能 ·卓越的透明度 ·高的紫外线密度 ·可以在明亮黄色荧光灯下操作 ·更优秀的线边锐利度 曝光参数 添加金属卤化物20-40sec 高密度汞气灯40-80sec 高密度弧光灯60-120sec 高密度氙气灯80-160sec |  |
应用
PhotomaskXtraTough?(IMD-XT)重氮片具有高透光率和卓越的抗刮伤抗溶剂性,特别适用生产高质量的PCB(印制线路板)中的干膜(包括防焊)、湿膜影像转移的工序.
曝光
PhotomaskXtraTough?(IMD-XT)重氮片对近紫外线部分光谱敏感,在380-410毫微米(nm)处为吸收峰值。推荐使用在410nm处有最大输出能量的金属卤化物光源以及其他添加类的光源。可以用于传统显影机。特定的工作条件下应选用正确的曝光时间。
安全光
本片可在明亮的黄色荧光灯或其他黄色光源(100英尺烛光)下工作。它也可以在大约20英尺烛光的柔和光线下短时间工作,这种光线一般来自于晒图台的间接照射。实际工作条件下的安全时间应由实验决定。
冲片
PhotomaskXtraTough?(IMD-XT)重氮片可以在大多数显影机中显影。推荐使用温度为65-75℃(150-170℉),比重为26°波美度的氨溶液。由于不可能显影过度,所以建议至少要经过两次显影以保证完全显影。无需再洗涤和干燥。
显影条件的影响
膨胀系数是用来预测由于环境变化引起的胶片尺寸变化的,它不能用于预测冲片过程中的尺寸变化。预先经过适应环境处理的胶片所产生的变化极为微小,难以测量。不过,如果胶片未经过预处理或冲片温度超过80℃(175℉)时,变化量可能超过75mm/25cm(3mil/10英寸)。