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高真空光学多层镀膜机采用e型电子枪蒸发源,可镀各种高熔点金属和氧化物材料,可制备多种光学镜片,眼镜片镀增透膜,滤光片,IR-CUT等,配有光学膜厚控制系统,电控系统采用PLC控制,可实现手动、半自动和自动3种方式,是光学仪器、激光工业、眼镜行业及照相行业等必需设备。
性能 型号 | CL-GLD-900 | CL-GLD-1100 | CL-GLD-1300 |
镀膜室尺寸 | ¢900×H1100MM | ¢1100×H1250MM | ¢1300×H1490MM |
工装夹具 | 拱型单工件盘,更大限度满足客户对均匀性的需要,旋转5~30r/min,无级变速 | 1、拱型单工件盘、满足客户对均匀性的需要,旋转5~30r/min,无级变速。 2、拱型三工件盘 |
真空系统 | 扩散泵KT-600,罗茨泵RTO-300,机械泵2X-70,维持泵2X-8,管路为304不锈钢 | 扩散泵KT-800,罗茨泵RTO-600,机械泵2X-70,维持泵2X-8,管路为304不锈钢 | 扩散泵KT-6300,罗茨泵RTO-300,机械泵2X-70,维持泵2X-15,管路为304不锈钢 |
| 极性真空:优于6X10-4Ma |
| 配置防湍流装置,安全互锁设计,手动、自动可选 |
加热系统 | 发热管上加热方法,PID控制,最高350℃±1.5℃ |
工作气体充气 | 压强仪或是手动微调充气阀 |
真空离子轰击 | 直流3KV,0.6KW棒状阴极(用于镀膜前自行对工件进行清洗)和气体离子源选配 |
蒸发源(选配) | 1、电子枪:10KW、高压稳定。定位扫描、束斑聚焦性好、定位精度高、扫描再现性好。 2、坩埚:六穴¢35*20坩埚或八穴¢35*20 |
离子源(选配) | 霍两离子源:用于电镀前清洗或电镀过程进行辅助镀,有利于提高膜层折射率、牢固率、提高膜层致辞密门头性、附着力。(功率按产品选择) |
镀膜控制系统(选配) | 1、晶控器:可储存 1-99层自动镀膜过程,99种程序数据,精度±1A°固定误差。 |
2、光控器:采用多波长的全光谱终点分析技术,通过对监控片370-870mm的透射率(或反射率)曲线分析来判定膜层,控制精度高;也可采用单波长控制,自动控制的手动控制。附加Caie3.5膜系计算软件,一体化程度高。 |
3、光控器配合晶控器能满足高精度、高重复性的镀膜要求,与上位机配合可以实现自动控制 |
4、国产光控器:波长330-870NM可调,精度可达到±1.5NM |
![水晶树脂1](http://i00.c.aliimg.com/img/ibank/2013/185/920/1054029581_1858100160.jpg)
![水晶树脂](http://i04.c.aliimg.com/img/ibank/2013/975/920/1054029579_1858100160.jpg)
![水晶树脂4](http://i04.c.aliimg.com/img/ibank/2013/775/920/1054029577_1858100160.jpg)
![水晶树脂2](http://i04.c.aliimg.com/img/ibank/2013/575/920/1054029575_1858100160.jpg)
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