专业生产 真空中频磁控溅射镀膜机

此设备广泛应用于手表、眼镜、通讯、电子、机械、装饰和交通航空等领域的高档装饰和功能性薄膜。

主要特点：       

1、沉积速率快，温升小，能较好抑制打火及靶中毒现象；

2、溅射释放的高能量使膜层密度和附着力有显著提高；

3、触摸屏+PLC,可实现全自动控制，自动/手动随时切换；

4、镀膜室容积大，装载量大，生产效率高。

5、工件架采用公转结构，可设置自动正反转，产品均匀性好；

6、整机配置合理，抽气速率快，噪声小，耗能低；

7、可根据客户的要求及所镀的工件设计机器,并配备不同的弧源

技术种类：物理气相沉积磁控溅射镀（Physical vapor deposition magnetron sputtering）
适用材料：金属 陶瓷 玻璃
设备尺寸：根据客户要求，可设计各种尺寸的生产单室单门，单室双门，双室设备
控制系统：PLC控制系统（自动、手动可选）
电源：磁控溅射电源

设备颜色：可供客户订制
操作人员：2-3名
每小时电耗：约40KW
制作材料：碳钢或者不锈钢
工艺气体：氩气，（氮气）
配套工程：压缩空气、冷却水
占地面积：3*4*3m（长*宽*高）