HA高耐蚀镀硬铬添加剂加入后,与镀层形成合金共沉积,封闭裂纹及孔穴,镀层结晶细致光亮,内应力小,只有微裂纹,没有应力集中造成的大裂纹与孔穴,添加剂对镀液有净化作用,可减少镀液中的有害金属杂质的积累,减少镀层的不良夹杂,大大提高了镀层的耐蚀性。
HA高耐蚀硬铬电镀工艺
一特点
1、高阴极电流效率,可达22~27%。
2、高沉积速度,一般是传统镀铬的2~3倍。
3、不会腐蚀阴极低电流密度区的底材。
4、镀层平滑,细致青亮。
5、高镀层硬度达HV900~1200。
6、高微裂纹数达1000条/寸。
7、镀层厚度均匀,有良好的分散能力。
8、镀液维护容易,控制简单。
9、无固体添加之铬尘和溅水现象。
10、无阳极腐蚀,勿须使用特殊阳极。
11、标准镀层耐中性盐雾测试可达100小时。
二、镀液配方和操作条件
成份及物理参数 | 范围 | 标准 |
铬酐 | 180~275克/升 | 220克/升 |
硫酸 | 2.4~4.0克/升 | 2.5克/升 |
温度 | 58~68 | 63℃ |
阴极电流密度 | 15~75A/分米2 | 60A/分米2 |
阳极电流密度 | 15~35A/分米2 | 30A/分米2 |
三、镀液的配制
铬酐浓度 | HA—ⅢQ |
CrO3 250克/升 | 20ml/l |
1、在槽中放入2/3的去离子水,按上表计算,将所需的铬酸、硫酸加入镀槽中。
2、再将HA—ⅢQ加入镀槽,添加去离子水,至所需之液位高度。
3、加热至55~60℃。
4、分析硫酸浓度、铬酸浓度,并调整至工艺规范。
5、电解4~6小时。
6、开始作业。
四、沉积速率(参考)
电流密度(安培/平方分米) | 沉积速率(微米/小时) |
30 | 20~30 |
45 | 40~50 |
60 | 50~70 |
75 | 70~90 |
注:沉积速率会随温度降低而稍微上升,但是光亮范围会相对变窄。
五、转缸与前处理
由一般传统的硬铬镀液转为HA—Ⅲ的程序非常简单,只须将镀液送交本公司化验,经确定无机杂质不超过7.5克/升,同时不含氟化物、稀土,则本公司将协助客户将镀液转成HA-Ⅲ之工艺。
HA—Ⅲ之前处理与一般传统硬铬电镀相同,无需经过特殊程序的处理。但镀铬溶液中金属杂质过多或悬浮颗粒过多会降低镀铬层的耐蚀性。
六、设备
镀槽(缸):铁槽内衬软式PVC槽衬或其他认可材料如Koroseal均可。
阳 极:含7%锡的铅阳极,其他如铅锡、铅锑阳极亦可使用。
整流器:输出功率须可达到9~15伏特较为适当,同时输出电流之波纹应在5%以下。
温度控制:热交换器或冷却盘管,建议使用钛管或金属管披覆铁弗龙(Teflon)或碳氟化物(PVDF)为佳。
循环搅拌:良好的镀液循环,可促进镀液中化学成分和热分布均匀,循环过滤机材料建议使用不锈钢或适当的防腐蚀塑料。
七、添加剂的作用与补给
HA—Ⅲ(补)以每1000安培小时6毫升补加,溶液蒸发量大,带出量大补加偏高,
反之偏低。
铬酸以每1000安培小时添加120~150克.。
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