CVD（Z）系列真空气氛管式炉专门设计用于中温CVD工艺。如石墨烯制备、ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等等。 窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温，加热元件采用进口KTL电阻丝；选用99刚玉管作为炉膛； 系统可预抽真空，气体采用质量流量计控制。控温仪表选用日本进口40段程序控温仪，其具有P、I、D参数自整定和人工修订功能，同时具有超温、欠温、断偶等断电报警保护功能，任何一种报警一旦产生系统会立即切断动力电源。以防止温控系统失效时产品过烧。

主要技术指标：

■设备型号：CVD(Z)-06/60/2
■最高温度： 1300℃
■工作温度： RT～1250℃
■工作区域（双温区）：Φ60（外径)×300
Φ60（外径)×300
■炉管实际尺寸：Φ60（外径）×1450mm （99 刚玉管）
■炉膛材料： 氧化铝、高铝纤维制品
■加热元件：FEC 陶瓷加热板，进口瑞典Kanthal 电阻丝
■控温点数：2 个，2 只S 分度热偶
■气路系统：3 台质量流量计+显示仪（七星华创）及配
套管路、混合罐（整体式结构）
■真空系统：机械泵及配套管路阀门，真空度≤10Pa（整体式结构）
■建议升温速率：3℃～5℃/min
■控温精度：±1℃
■温控仪表：2 只，日本进口40 段程序控温仪表，PID 参数自整定，超温、
断偶报警等保护。
■最大加热功率：6Kw
■空炉保温功率：2Kw
■外观处理： 主体电脑色或用户自定
■外形尺寸： 约1500mm×1650mm×700mm（L×H×D）
■供电电源：三相电源，50HZ ，380V±10%；10KW