金属抛光粉快速高效好用 卡西欧五金零件光亮用金属抛光粉

抛光粉- 1、抛光粉的简介

俗称：研磨粉

适用物料：自行车、铝压铸件、锌压铸件、家具五金配件、服装五金配件、箱包五金配件、眼镜配件、钟表配件、锁、电子配件、各类首饰、珠宝及粉末冶金、树脂等。

应用领域：主要用于高要求的抛光产品，精光研磨，切削力量低，光泽度高，抛光粉作业后工件表面达到精光效果。

 抛光粉产品特色：

   1.采用混合稀土作为原料，经氟化焙烧制成的棕红色抛光粉，通用性强，可用于多种光学元件，晶体，高精度要求的平板玻璃等抛光。

  2.平均粒度1.2-1.6微米，最大颗粒小于7.51um，可满足多种产品的精度要求。

   3.抛光速度快，颗粒耐磨性好；悬浮性好，且易清洗。

 应用广泛：

   1、电子行业：电子行业单晶矽片的研磨以及PCB金相切片的研磨；

   2、装饰行业：不锈钢餐具及其它装饰材料的抛光

   3、喷涂材料：等粒子喷涂；

   4、光學玻璃冷加工。

抛光粉- 2、抛光粉的材料

　　抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成，不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9，氧化铈和氧化锆为7，氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高，硬度也相当，因此广泛用于玻璃的抛光。
 　　为了增加氧化铈的抛光速度，通常在氧化铈抛光粉加入氟以增加磨削率。铈含量较低的混合稀土抛光粉通常掺有3－8的氟；纯氧化铈抛光粉通常不掺氟。
 　　对ZF或F系列的玻璃来说，因为本身硬度较小，而且材料本身的氟含量较高，因此因选用不含氟的抛光粉为好。

抛光粉-

3、对抛光粉的基本要求

     （1）微粉粒度均匀一致，在允许的范围之内；
 　　（2）有较高的纯度，不含机械杂质；
 　　（3）有良好的分散性和吸附性，以保证加工过程的均匀和高效；
 　　（4）粉末颗粒有一定的晶格形态，破碎时形成锐利的尖角，以提高抛光效率；
 　　（5）有合适的硬度和密度，和水有很好的浸润性和悬浮性，因为抛光粉需要与水混合

抛光粉- 4、氧化铈的颗粒度

　　粒度越大的氧化铈，磨削力越大，越适合于较硬的材料，ZF玻璃应该用偏细的抛光粉。要注意的是，所有的氧化铈的颗粒度都有一个分布问题，平均粒径或中位径D50的大小只决定了抛光速度的快慢，而最大粒径Dmax决定了抛光精度的高低。因此，要得到高精度要求，必须控制抛光粉的最大颗粒。

抛光粉- 5、抛光粉的硬度

　　抛光粉的真实硬度与材料有关，如氧化铈的硬度就是莫氏硬度7左右，各种氧化铈都差不多。但不同的氧化铈体给人感觉硬度不同，是因为氧化铈抛光粉通常为团聚体，附图为一个抛光粉团聚体的电镜照片。由于烧成温度不同，团聚体的强度也不一样，因此使用时会有硬度不一样的感觉。当然，有的抛光粉中加入氧化铝等较硬的材料，表现出来的磨削率和耐磨性都会提高。

抛光粉- 6、抛光浆料的浓度

　　抛光过程中浆料的浓度决定了抛光速度,浓度越大抛光速度越高。使用小颗粒抛光粉时，浆料浓度因适当调低。

抛光粉- 7、抛光模的选择

　　抛光模应该用软一点的。应该指出的是，很多聚氨酯抛光片中添加了氧化铈抛光粉。这些抛光粉的最大颗粒度同样决定了最终的抛光精度。依我之间，最好使用不加抛光粉的抛光模。
 　　影响抛光粉性能的指标
1、粉体的粒度大小：决定了抛光精度和速度，常用多少目和粉体的平均粒度大小来。过筛的筛网目数能掌握粉体相对的粒度的值，平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。
 2、粉体莫氏硬度：硬度相对大的粉体具有较快的切削效果，同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果；不同的应用领域会有很大出入，包括自身加工工艺。
 3、粉体悬浮性：好的粉要求抛光粉要有较好的悬浮性，粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响，片形及粒度细些的抛光粉的悬浮性相对的要好一些，但不是决对的。抛光粉悬浮性能的提高也可通过加悬浮液（剂）来改善。
4、粉体的晶型：粉体的晶型是团聚在一起的单晶颗粒，决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离（破碎），使其切削性、耐磨性逐渐下降，不规则的六边形晶型颗粒具有良好的切削性、耐磨性和流动性。
5、外观颜色：原料中Pr的含量及灼烧温度等因素有关，镨含量越高，其粉体显棕红色。低铈抛光粉中含有大量的镨（铈镨料），使其显棕红色。高铈抛光粉，灼烧温度越高，其显偏白粉色，温度低（900度左右），其显淡黄色。
 

抛光粉- 8、抛光粉的生产原料

　　目前，我国生产铈系稀土抛光粉的原料有下列几种：
 (1)氧化铈(CeO2)，由混合稀土盐类经分离后所得(w(CeO2)=99%)；
 (2)混合稀土氢氧化物(RE(OH)3)，为稀土精矿(w(REO)≥50%)化学处理后的中间原料(w(REO)=65%，w(CeO2)≥48%)；
 (3)混合氯化稀土(RECl3)，从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土(主要含La，Ce，Pr和Nd，w(REO)≥45%，w(CeO2)≥50%)；
(4)高品位稀土精矿(w(REO)≥60%，w(CeO2)≥48%)，有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳铈矿精矿。
 　　以上原料中除第1种外，第2，3，4种均含轻稀土(w(REO)≈98%)，且以CeO2为主，w(CeO2)为48%～50%。我国具有丰富的铈资源，据测算，其工业储量约为1800万吨（以CeO2计），这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国独有的一大优势，并可促进我国稀土工业继续高速发展。

  研磨粉产品图如下：

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