主要用于石英晶片的精密清洗及干燥

 1.洁净度高，优于传统纯水清洗干燥工艺。

 2.采用不可燃有机溶剂作为清洗剂，清洗及干燥均在一个槽体内进行。

 3.整个清洗干燥过程均在真空下进行，溶剂损耗极低。

 4.配置不同规格超声波装置，于不同阶段清洗，提高清洗效率及洁净度。

 5.设备占地小，效益高。