离子镀膜+磁控溅射机工作原理是在真空状态下,使用弧光放电和辉光放电的工作原理。在金属和非金属的工件表面上镀制金色的氮化钛,黑色碳化钛,七彩的氮氧化钛等。亦可镀防腐蚀膜(如:AL,CR不锈钢及TiN等)和耐磨膜,膜层与基底结合牢固,适合于手表,五金餐具,陶瓷及要求磨超硬的刀具,模具等,具有委腿子的发展前景。
离子镀膜机技术参数说明
设备型号 | ZCK-1200B | ZCK-1400B | ZCK-1600B | ZCK-1800B |
真空室尺寸 | 1200×1500 | 1400×1950 | 1600×1950 | 1800×1950 |
制膜种类 | EMI防电磁干扰屏东膜、装饰膜等 |
电源类型 | 直流磁控电源+高压离子轰击电源 |
圆柱靶 | 直流磁控靶(无氧铜靶+不锈钢靶) |
真空室结构 | 立式双开门、立式单开门 |
真空系统 | 滑阀泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷泵、深冷系统) |
充气系统 | 质量流量控制仪(1-3路) |
极限真空 | 6×10-4pa(空载、净室) |
抽气时间 | 空载大气抽至5×10-3pa小于15分钟 |
工件旋转方式 | 6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速 |
控制方式 | 手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC |
备注 | 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做 |
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