磁控溅射镀AR膜镀膜设备采用磁控溅射做主要成膜手段，适合于AR膜的大规模镀膜生产。

技术特点：

1、磁控溅射成膜膜层致密，温漂小、机械强度高、光谱性能稳定。

2、在线膜层厚度和工件反射率测量，产品一致性好。

3、立式双开门，装载量大，生产效率高，每日可生产AR膜100平方米。

主要配置：

1、真空室：直径1600mm,高度：1950mm

2、可镀面积：AR,5平方米

3、四对圆柱靶

4、石英晶体在线膜厚测量系统和光谱反射率在线测量系统

5、双K800扩散泵或四台400口径分子泵机组加深冷机组。