电阻/电容/传感器专用磁控溅射镀膜机技术参数说明
设备型号 | ZCK-1200 | ZCK-1400 | ZCK-1600 | ZCK-1800 |
真空室尺寸 | 1200×1500 | 1400×1950 | 1600×1950 | 1800×1950 |
制膜种类 | 多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等 |
电源类型 | 直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源 |
圆柱靶 | 直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶 |
真空室结构 | 立式双开门、立式单开门 |
真空系统 | 滑阀泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷泵、深冷系统) |
充气系统 | 质量流量控制仪(1-4路) |
极限真空 | 6×10-4pa(空载、净室) |
抽气时间 | 空载大气抽至5×10-3pa小于15分钟 |
工件旋转方式 | 6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速 |
控制方式 | 手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC |
备注 | 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做 |
中频磁控溅射镀膜机可在塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材、电阻、电容、传感器专用磁控溅射镀膜机等行业。
该系列设备主要是(集)直流磁控溅射,可适应广泛镀膜靶材,如:铜、钛、铬、不锈钢、镍等金属材料,可利用溅射工艺进行镀膜,可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。
我司所生产的真空设备均可根据客户要求定制!欢迎来电咨询;0758-2787178或0755-26500053(深圳办事处)