二氧化硅抛光液 品质保证
二氧化硅抛光液即纳米胶态氧化硅抛光液这是一种应用于化学机械研磨(CMP)工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。
产品介绍:
型号 | 平均粒径(NM) | Sio2含量(%) | PH值 | 比重 | 密度(g/ml) | 稀释比例 | |
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80纳米 | 80 | 40 | 10.2 | 1.30 | 1. 15±0.05 | <1:1 | |
50纳米 | 40.0 | 40 | 10.2 | 1.30 | 1. 15±0.05 | <1:1 | |
包装规格:20Kg/桶。
储存方式:存放温度为5℃-35℃,避免阳光照射;
保质期限:碱性抛光液保质期为二年,建议在一年内使用。
应用领域:
1、金属类材料:如不锈钢、铝合金、锌件抛光;
2、LED蓝宝石衬底,晶体、宝石件抛光;
3、光学镜片、光学玻璃、石英件抛光;
4、磁头、硬盘件抛光;
5、光纤以及光伏抛光。
产品大图: