电子半导体行业水质标准：
我公司电子级超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ. cm、15MΩ. Cm、10MΩ. Cm、2MΩ. Cm、0.5MΩ. Cm、五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
电子工业对水质的要求：
微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
应用场合：
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；超纯材料和超纯化学试剂；实验室和中试车间；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏；高品质显像管、荧光粉生产；半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。
典型电子级超纯水制备工艺：
预处理┄反渗透┄水箱┄阳床┄阴床┄混合床┄纯水箱┄纯水泵┄紫外线杀菌器┄精制混床┄微孔膜过滤器┄用水对象
预处理┄一级反渗透┄pH调节装置┄中间水箱┄二级反渗透┄纯水箱┄紫外线杀菌器┄微孔膜过滤器┄用水对象
预处理┄二级反渗透┄中间水箱┄水泵┄EDI装置┄纯水箱┄纯水泵┄紫外线杀菌器┄微孔膜过滤器┄用水对象   新工艺
预处理┄二级反渗透┄中间水箱┄水泵┄EDI装置┄纯水箱┄纯水泵┄紫外线杀菌器┄抛光混床┄TOC分解器┄微孔膜过滤器┄用水对象  最新工艺
部分产品规格：

二级反渗透+混合离子交换器高纯水制取工艺流程示意图


 

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