无限远光学系统，带同轴落射照明和偏光装置，大平台和升降立柱适宜高大试样，可用于大工件金相检测,电子行业大面积硅晶圆,PCB和LCD等。

 

总放大倍率：  50×,100×,200×,500×(暗场、微分干涉见表）
无限远物镜：  5×,10×,20×,50×，可另选
物镜转换器：  内倾五孔滚珠内定位
广角大目镜：  平场PL10×/22mm
分划目镜：    10×/22,格值0.1mm,视度补偿
测微尺C1：    格值0.01/1mm

 

双目镜筒：    铰链式,倾角30°,瞳距55-75mm,屈光度±5D可调
影像输出：    三目同步光学输出,标准接口,可100%通光摄影
仪器基座：    300×240mm,附机械载物台,便于大试样目标定位
机械载物台：  外形尺寸185×140mm,移动范围35×30mm
升降机构：    圆柱导向升降120mm,适宜高大试样(h≤80mm)
调焦机构：    同轴粗微动,升降30mm,微调2μm,调焦定位和松紧调节
同轴落射照明：可变孔径和视场光阑,带滤色片,卤素灯6V/30W(GX400)
同轴落射照明：可变孔径和视场光阑,带滤色片,卤素灯12V/50W(暗场与微分干涉机型)
偏光装置：    内切换起/检偏振器,起偏器可360°旋转
微分干涉：    相衬插板适用于微分干涉物镜（GX400-DIC、GX400BD-DIC）
滤色片：      黄/绿/蓝/磨砂(转盘组)
输入功率：    AC220V/50Hz/30VA
仪器包装：    体积48×36×56Cm,重量10kg