名称：二硫化钨WS2剥离单层

纯度：99.99%

尺寸：面积≧ 20μm2

备注：随样品附光学显微镜图片。可根据客户要求提供拉曼谱、PL谱或AFM谱图。

制备方法：

机械剥离法。

应用领域：

a. 单原子层材料电学研究

b. 单原子层材料光学传感与探测研究

c. STM-AFM方面应用研究与分子检测

d. 超快光学检测与研究

e. 材料科学和半导体研究