名称：二硒化钼MoSe2CVD单层

纯度：99.99%

尺寸：20 - 50μm

备注：随样品附SEM和AFM谱图。

衬底：10mm*10mm SiO2-Si

制备方法：CVD法。

应用领域：

1. 单原子层材料电学研究

2. 单原子层材料光学传感与探测研究

3. STM-AFM方面应用研究与分子检测

4. 超快光学检测与研究

5. 材料科学和半导体研究