结构紧凑、桌上型仪器；
使用可调射频电源；
可以设置功率为低、中、高级别；
低成本、环境友好、操作安全。
等离子清洗机可用于清洗、刻蚀、活化和表面准备等。可选择40KHz、13.56MHz和2.45GHz三种射频发生器，以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。

用途：
  用于去除基片表面刻蚀工艺过程中作为刻蚀材料保护膜的光刻胶掩膜，也可用于基片表面其它有机物的等离子体清洗。
特点：
    1.采用卧式感应耦合等离子体（ICP）技术；
    2.工艺过程智能全自动控制，压力闭环全自动控制；
    3.工艺重复性好，去胶速度快，均匀性好，批量大，处理时间短，生产量大