名 称:钛 符 号:Ti 原子量:47.88 | 熔 点:1668℃ 沸 点:3277℃ 密 度:4.506g/cm3 |
高纯钛是指纯度在4N以上的金属钛,主要制备方法有:碘化法,熔盐电解法,电子束熔炼法,电子束区熔法等。
高纯钛主要用于半导体材料,溅射靶材,合金材料及超高真空装置中的吸气材料。 我公司可提供4N5,5N高纯钛,采用美国进口原料。主要用于生产高纯度溅射靶材和金属颗粒,用于高纯度合金熔炼,蒸发镀膜等领域。 | | 名称 | 符号 | 纯度 | 状态 | 规格 | | 高纯钛 | Ti | 4N
4N5 5N | 靶材 | 根据要求定制 | | 2N5 | 粉末 | 根据要求定制 | | 3N5~5N | 颗粒 棒状 | φ3*3mm 6*6mm 可定制 | | 3N5~5N | 丝状 | φ0.1-5mm | | 3N5~5N | 片状 | 0.03-10mm | 我们可提供钛氧化物,氮化物及其他化合物靶材,粉末等。 溅射靶材:二氧化钛靶材,氮化钛靶材,钛酸锶晶体靶材,钛酸钡靶材等 光学镀膜材料:二氧化钛颗粒,五氧化三钛晶体颗粒等 | | 化合物及合金 | | 氧化钛 | TiO2 TiO Ti3O5 | 4N | 靶材
粉末 颗粒 | 根据要求定制 | | 氮化钛 | TiN | 4N | 靶材
粉末 颗粒 | 根据要求定制 | | 硼化钛 | TiB2 | 2N5 | 靶材
粉末 | 根据要求定制 | | 钛酸锶 | SrTiO3 | 4N | 靶材
颗粒 | 根据要求定制 | | 钛酸钡 | BaTiO3 | 4N | 靶材 | 根据要求定制 | | 钛铝合金 | Ti-Al | 3N | 靶材 | 根据要求定制 | | 钛硅合金 | Ti-Si | 3N | 靶材 | 根据要求定制 | | 钛钨合金 | Ti-W | 3N5
4N | 靶材 | 根据要求定制 | | 其他规格及其钛基合金可定制生产。欢迎来电咨询 |
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中诺新材专业生产高品质溅射靶材,陶瓷靶材,金属靶材。产品通过各种方法(磁控溅射、真空镀等)应用真空镀膜的各种领域:科学研究,航天航空,汽车,微电子,集成电路产业,光源,光学,装饰,平面显示器产业,信息存储产业,数据存储等等。








1. 金属靶材:
镍靶,钛靶,锌靶,铬靶,镁靶,铌靶,锡靶,铝靶,铟靶,铁靶,锆靶,硅靶,铜靶,钽靶,锗靶,银靶,钴靶,金靶,钆靶,镧靶,钇靶,铈靶,铪靶,钼靶,铁镍靶,钨靶,不锈钢靶,锆铝靶,镍铁靶,钛铝靶,铁钴靶,镍铬靶,铜铟镓靶,铝硅靶,锌铝靶等溅射靶材。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶,IGZO靶,氧化镁靶、氧化钇靶,氧化铁靶,氧化铁靶、氧化镍靶,氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、硫化镉靶,硫化钼靶,二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二硫化钼靶,二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶,五氧化二钽靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶等陶瓷溅射靶材.
3.合金靶材
合金靶材:钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al 、铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。