一、设备概述

JFHK-ZKL真空炉为我公司根据客户需求专业定制的热处理设备，主要用于：氮化硅镀膜、陶瓷电容器（MLCC）、金刚石、硬质合金等气氛烧结及金属的退火等工艺。本设备具有：自动化程度高、温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动小、升降温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研及生产设备。

二、设备技术指标

1、外型形式：方箱式，可移动式加热器

2、最高工作温度：900℃ 

3、常用工作温度：600-800℃

4、真空室有效尺寸：600（L）*600（D）*150（H）

5、加热元件：优质电阻丝

6、最大加热功率10KW，保温功率5KW

7、真空室材质：SUS310S耐热不锈钢

8、产品尺寸：Φ500mm*50mm铜线卷

9、料盒：共两层料盒，采用SUS310S不锈钢+石英板结构，即保证强度又不会污染产品

10、气路：氩气、氮气两路气体，从真空室底部进气，气路管件采用进口316L不锈钢管件

11、流量计：采用浮子流量计控制，氮气、氩气两路气体

12、真空系统：旋片真空泵

13、极限真空度：1Pa(7.5*10-3托)

14、最大充气压力：50KPa，系统具有恒压功能

15、真空计：热偶规+压敏电阻规，充氮气时使用热偶规，充氩气时使用压敏电阻规

16、真空测量量程：1Pa—50KPa

17、温控系统：日本岛电SRS10温控仪

18、控制方式：移项触发

19、最大升温速率：15℃/Min，升温范围：1-15℃/Min可调；

20、最大降温速率：10℃/Min，开启风冷后1小时左右由500度降至100度以下

21、冷却方式：水冷+风冷

22、操作方式：手、自动两种操作方式

23、保护：系统设有超温保护、缺水保护、真空系统阀门互锁保护

24、动力要求：供电电源：AC380V±10%、50Hz

              总功率：13KW、三相五线制

工艺气体压力：2～4Kg/cm3

              冷却水：2～4Kg/cm3  流量≤5m3/h  进水温度≤15℃