超音波是指任何声波或振动，其频率超过人类耳朵可以听到的最高阈值20kHz（千赫）。超音波由于其高频特性而被广泛应用于众多领域，比如金属探伤，工件清洗等。超音波在軍事、醫療及工業中有較大的用途。它應用按功率的大小可分為功率超聲和檢測超聲。

超声波清洗机是利用超声波的空化作用，破坏不溶性污物，使它们分散于清洗液中，油被乳化，固体粒子即脱离，从而达到清洗件洁净的效果，超声波清洗机主要由超声波清洗槽和超声波发生器两部分构成。

超声波清洗机使用注意事项：

1.设备电源必须有良好的接地装置。

2.清洗槽没有加一定数量的清洗液体，不得开启超声波。

3.有加热装置的清洗设备严谨无液时打开加热开关。

4.禁止用重物撞击清洗槽槽底，以免换能器晶片受损。

　　在半导体材料的制备过程中，每一道工序都涉及到清洗，而且清洗的好坏直接影响下一道工序，甚至影响器件的成品率和可靠性。由于ULSI集成度的迅速提高和器件尺寸的减小，对于晶片表面沾污的要求更加严格，ULSI工艺要求在提供的衬底片上吸附物不多于500个/m2×0.12um，金属污染小于 1010atom/cm2。晶片生产中每一道工序存在的潜在污染，都可导致缺陷的产生和器件的失效。因此，硅片的清洗引起了专业人士的重视。以前很多厂家都用手洗的方法，这种方法人为的因素较多，一方面容易产生碎片，经济效益下降，另一方面手洗的硅片表面洁净度差，污染严重，使下道工序化抛腐蚀过程中的合格率较低。所以，硅片的清洗技术引起了人们的重视，找到一种简单有效的清洗方法是当务之急。