| 名 称:二氧化铪 | | 熔 点:2812℃ | | | | |
| 符 号:HfO2 | | CAS 号: 12055-23-1 | | | | |
| 原子量:210.49 | | 密 度:9.68g/cm3 | | | | |
| 纯 度:4N | | | | | | | |
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| 产品规格 | 状态 | 纯度 | 尺寸 | | 包装 | | | |
| 颗粒(黑色) | 4N | 1-3mm或压片状 | 100g,500g,1kg | |
| 颗粒(白色) | 4N | 1-3mm或压片状 | 100g,500g,1kg | |
| 粉末 | 4N | 200目 | 100g、250g、1kg | |
| 靶材 | 4N(进口料) | Φ50.8、Φ76.2、Φ101.6 | 片 | |
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| 产品优点 | 蒸发压力:在2678℃时1Pa;在2875℃时10Pa 线膨胀系数:5.6×10-6/K 溶解度:不溶解于水 薄膜特性:透光范围~220~12000nm;折射率(250nm)~2.15 (500nm)~2 蒸发条件:用电子枪,氧分压~1~2×10-2Pa。蒸发温度~2600~2800℃,基片温度~250℃,蒸发速率2nm/s 应用领域:UV增透膜,干涉膜 |
| 产品用途 | 磁控溅射镀膜材料等 |
| 产品附件 | 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发 票 |
| 产品包装 | 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装 |
| 制作工艺 | 化学精炼法,电解精炼法,萃取精炼法等 |
| 适用仪器 | 各类型号磁控溅射设备 |
| 交货期 | 单片材料1周内发货,批量材料7—10个工作日内发货 |
| 产品运输 | 国内快递承运(顺丰,韵达等) |
| 起订量 | 靶材一片起订,粉末颗粒100g起订 |
| 官方网站 | www.ynmat.com | 咨询QQ:2850734040 |
1.磁控溅射靶材(高纯单质金属靶材,高纯合金靶材,陶瓷靶材,陶瓷复合靶材,稀土靶材,贵金属靶材) 2.真空镀膜料(高纯金属膜料,高纯化合物膜料,贵金属膜料) 3.稀土金属(蒸馏稀土金属,还原稀土金属) 4.实验耗材(钨舟钼舟、钨丝篮、钨绞丝、加热子、石墨坩埚、氮化硼坩埚) 5.单晶硅片(N型硅片、P型硅片、本征硅片)可重掺、可抛光 |
金属单质及部分合金靶材:铝靶Al,银靶Ag,金靶Au,钴靶Co,铬靶 Cr,铜靶Cu,镍靶Ni,钛靶Ti,锌靶Zn,镁靶Mg,铌靶Nb,锡靶Sn,铟靶In,铁靶Fe 锆靶Zr 铂靶Pt 钽靶Ta 锗靶Ge 硅靶Si 钨靶 W铪靶 Hf钆靶Gd 钐靶Sm,镝靶Dy,铈靶Ce,钇靶Y,镧靶La,铼靶Re,钌靶Ru,钯靶Pd,铑靶Rh,铋靶Bi,钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al、铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等 陶瓷靶材:氮化硅靶Si3N4、氮化铝靶AIN,氮化硼靶BN,氮化铬靶材CrN,氮化锆靶ZrN,氮化钛靶TiN,碲化镉靶CdTe,二硅化钼靶MoSi2二硫化钼MoS2,二硼化锆靶ZrB2,二硼化钛靶TiO2,二氧化锆靶ZrO2,二氧化硅靶SiO2,二氧化锰MnO2,二氧化铈靶CeO2,二氧化钛靶TiO2,二氧化锡靶SnO2,氟化钡靶BaF2,氟化钙靶CaF2,氟化铝靶AlF3,氟化镁靶MgF2,氟化铈靶CeF2,硫化镉靶CdS,硫化亚铜Cu2S,硫化锌靶ZnS,硼靶B,硼化铪靶HfB2,三氧化二铬靶Cr2O3,三氧化二锰Mn2O3,三氧化钨靶WO3,钛酸钡靶BaTiO3,钛酸镨靶PrTiO3,石墨靶C,碳化锆靶ZrC,碳化铬靶Cr3C2,碳化硅靶SiC,碳化铪靶HfC,碳化硼靶B4C,碳化钛靶TiC,碳化钨靶W2C,五氧化二铌靶Nb2O5,氧化铒靶Er2O3,氧化钴靶CoO,氧化铪靶HfO2,氧化镓靶Ca2O3,氧化钪靶Sc2O3,氧化铝靶Al2O3,氧化镁靶MgO,氧化镍靶NiO,氧化钕靶Nd2O3,氧化钽靶Ta2O5,氧化铁靶Fe2O3,氧化铜靶CuO,氧化锌靶ZnO,氧化钇靶Y2O3,氧化铟靶In2O3,ITO靶(In2O3+SnO2),AZO靶(ZnO+AL203),LGZO靶, |
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