| 名 称：氧化铈 | 密度：7．13g/cm3 | | | |
| 符 号：CeO2 | 熔点：2397℃ | | | |
| CAS：1306-38-3 | 分子量：172.11 | | | |
| 纯 度：4N | | | | | | |
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| 产品规格 | 状态 | 纯度 | 尺寸 | 包装 | | | | |
| 氧化铈 | 靶材 | 4N | 根据要求定制 | 片，真空包装 | | |
| 氧化铈 | 粉末 | 5N | 5-8μm | 100g、500g、1kg | | |
| 氧化铈 | 颗粒 | 4N | 1-3mm | | | |
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| 产品优点 | 1，不纯物元素含量极低 2，导电性能好，产品致密度好 3，制备一般有化学精炼法，电解精炼法，萃取精炼法等 |
| 产品用途 | 磁控溅射镀膜材料等 |
| 产品附件 | 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发 票 |
| 产品包装 | 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装 |
| 制作工艺 | 化学精炼法，电解精炼法，萃取精炼法等 |
| 适用仪器 | 各类型号磁控溅射设备 |
| 交货期 | 单片材料1周内发货，批量材料7—10个工作日内发货 |
| 产品运输 | 国内快递承运（顺丰，韵达等） |
| 起订量 | 靶材一片起订，粉末颗粒100g起订 |
| 官方网站 | www.ynmat.com | 咨询QQ：2850734040 |
1.磁控溅射靶材（高纯单质金属靶材,高纯合金靶材,陶瓷靶材,陶瓷复合靶材,稀土靶材,贵金属靶材）
2.真空镀膜料（高纯金属膜料,高纯化合物膜料,贵金属膜料）
3.稀土金属（蒸馏稀土金属,还原稀土金属）
4.实验耗材（钨舟钼舟、钨丝篮、钨绞丝、加热子、石墨坩埚、氮化硼坩埚）
5.单晶硅片（N型硅片、P型硅片、本征硅片）可重掺、可抛光 |
金属单质及部分合金靶材：铝靶Al，银靶Ag，金靶Au，钴靶Co，铬靶 Cr，铜靶Cu，镍靶Ni，钛靶Ti，锌靶Zn，镁靶Mg，铌靶Nb，锡靶Sn，铟靶In，铁靶Fe 锆靶Zr 铂靶Pt 钽靶Ta 锗靶Ge 硅靶Si 钨靶 W铪靶 Hf钆靶Gd 钐靶Sm，镝靶Dy，铈靶Ce，钇靶Y，镧靶La，铼靶Re，钌靶Ru，钯靶Pd，铑靶Rh，铋靶Bi，钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al、铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等
陶瓷靶材：氮化硅靶Si3N4、氮化铝靶AIN，氮化硼靶BN，氮化铬靶材CrN，氮化锆靶ZrN，氮化钛靶TiN，碲化镉靶CdTe，二硅化钼靶MoSi2二硫化钼MoS2，二硼化锆靶ZrB2，二硼化钛靶TiO2，二氧化锆靶ZrO2，二氧化硅靶SiO2，二氧化锰MnO2，二氧化铈靶CeO2，二氧化钛靶TiO2，二氧化锡靶SnO2，氟化钡靶BaF2，氟化钙靶CaF2，氟化铝靶AlF3，氟化镁靶MgF2，氟化铈靶CeF2，硫化镉靶CdS，硫化亚铜Cu2S，硫化锌靶ZnS，硼靶B，硼化铪靶HfB2，三氧化二铬靶Cr2O3，三氧化二锰Mn2O3，三氧化钨靶WO3，钛酸钡靶BaTiO3，钛酸镨靶PrTiO3，石墨靶C，碳化锆靶ZrC，碳化铬靶Cr3C2，碳化硅靶SiC，碳化铪靶HfC，碳化硼靶B4C，碳化钛靶TiC，碳化钨靶W2C，五氧化二铌靶Nb2O5，氧化铒靶Er2O3，氧化钴靶CoO，氧化铪靶HfO2，氧化镓靶Ca2O3，氧化钪靶Sc2O3，氧化铝靶Al2O3，氧化镁靶MgO，氧化镍靶NiO，氧化钕靶Nd2O3，氧化钽靶Ta2O5，氧化铁靶Fe2O3，氧化铜靶CuO，氧化锌靶ZnO，氧化钇靶Y2O3，氧化铟靶In2O3，ITO靶（In2O3＋SnO2），AZO靶（ZnO＋AL203），LGZO靶，
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