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温州驰诚真空镀膜机品牌厂家供应CCZK-EL立式蒸发镀膜设备直销

不限

￥

中国温州

产品属性

图文详情

品牌推荐

品牌

驰诚

型号

CCZK-EL立式蒸发镀膜设备

原理类型

真空离子镀膜机

应用领域

工业涂层

极限真空度类型

超高真空

极限真空度

5.0×10-4PaPa

镀膜室尺寸

1830*2440*4mm ;1830*2440*5mm;1830*2440*6mm mm

工作真空度

10^5~10^2pPa

升压率

）≥0.1Mpa不含液体压力下同;Pa/h

抽气时间

0.1smin

靶材利用率

98%

基材尺寸

标配多套钛靶或不锈钢靶材

可镀基材

各种金属和非金属薄膜

卷绕速度

3600～4000m/minm/min

真空室材质

Q-235A碳钢、304 不锈钢，310S不锈钢（耐高温）、316L不锈钢（抗磁性干扰）

真空获得系统

高抽速，高气流量，高可靠性，低噪音，低振动

工件运动方式

旋转

系统控制

CCZK-ION

最高加热温度

装饰镀膜350℃温控PID可调可控制，超硬质工具镀膜550℃温控PID可调可控。℃

热区加热均匀度

最高加热温度:300℃ 热区加热均匀度:150±℃ 外观尺寸:根据客户定制mm ±℃

冷却方式

有直接冷却和间接冷却两种

蒸发功率

Φ1000*H1200kW

整机总功率

100~125KW 125~145KW 145~165KW 165~185KW 185~200KW 200KW以上kW

适用领域

金属，玻璃，陶瓷等材料表面进行镀膜。普通装饰镀膜设备广泛适用于不锈钢展架，不锈钢散件，门花，花洒，把手，水暖五金、钟表、洁具、餐具、水龙头、金属打水机、手机金属壳、玻璃水晶装饰品、玻璃管等镀膜

加工定制

是

外观尺寸

Φ1000*H1200，Φ1400mm*H1600mm,Φ1200mm*H1500mm，　　Φ1800mm*H2000mm, Φ2000mm*H2200mm 　　真空室尺寸或设备配置可按客户产品及特殊工艺要求订做mm

重量

根据产品大小而定kg

CCZK-ION

多弧离子PVD镀膜设备

腔体结构

立式前开门，卧式前开门，后置真空获得系统

　材质用料

腔体采用优质SUS304不锈钢材质

离子弧源

依据设备大小不同配备多套弧电源系统

偏压电源

配备大功率单级脉冲偏压电源

注:最好的真空镀膜机生产厂家温州驰诚真空机械有限公司专业供应优质真空镀膜机,真空镀膜机设备直销批发报价以及技术咨询手机：13857753897

温州驰诚真空镀膜机品牌厂家供应CCZK-EL立式蒸发镀膜设备直销

产品来源链接:www.wzcczk.com/news/news516.html

CCZK-EL立式蒸发镀膜设备产品介绍：

腔体结构：立式前开门，卧式前开门，后置真空获得系统

材质用料：腔体采用优质SUS304不锈钢材质

离子弧源：依据设备大小不同配备多套弧电源系统

偏压电源：配备大功率单级脉冲偏压电源

多弧靶材：标配多套钛靶或不锈钢靶材

转动系统：变频调速，公自转结合，可采用上传动或下传动方式

真空系统（装饰镀膜设备Decorative coating）：扩散泵（可选分子泵）+罗茨泵+机械泵+维持泵+深冷系统（可选）

真空系统（超硬质工具镀膜Tooling coating）：分子泵+罗茨泵+直联泵（进口）+维持泵+可选深冷泵

气体控制：多路气体质量流量控制系统

加热系统：装饰镀膜350℃温控PID可调可控制，超硬质工具镀膜550℃温控PID可调可控。

智能控制： PLC智能控制+HMI全彩人机触控界面，实现逻辑全自动控制

报警及保护：异常情况进行报警，并执行相应保护措施。

其他技术参数：

极限真空： 5.0×10-4Pa

抽气速率： 5.0*10-2≤5min

水压流速≥0.2Mpa 3m3/h；水温≤25℃；气压：0.4-0.8Mpa；

备注：

一般规格：

Φ1000*H1200，Φ1400mm*H1600mm,Φ1200mm*H1500mm，

Φ1800mm*H2000mm, Φ2000mm*H2200mm

真空室尺寸或设备配置可按客户产品及特殊工艺要求订做

最直接的镀膜控制方法是石英晶体微量平衡法(QCM)，这种仪器可以直接驱动蒸发源，通过PID控制循环驱动挡板，保持蒸发速率。只要将仪器与系统控制软件相连接，它就可以控制整个的镀膜过程。但是(QCM)的精确度是有限的，部分原因是由于它监控的是被镀膜的质量而不是其光学厚度。
此外虽然QCM在较低温度下非常稳定，但温度较高时，它会变得对温度非常敏感。在长时间的加热过程中，很难阻止传感器跌入这个敏感区域，从而对膜层造成重大误差。
光学监控是高精密镀膜的的首选监控方式，这是因为它可以更精确地控制膜层厚度(如果运用得当)。精确度的改进源于很多因素,但最根本的原因是对光学厚度的监控。

OPTIMAL SWA-I-05单波长光学监控系统，是采用间接测控，结合汪博士开发的先进光学监控软件，有效提高光学反应对膜厚度变化灵敏度的理论和方法来减少终极误差，提供了反馈或传输的选择模式和大范围的监测波长。特别适合于各种膜厚的镀膜监控包括非规整膜监控。

CCZK-ION多弧离子PVD镀膜设备放大图

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