OEC系列真空光学（电子枪）镀膜机型号及技术参数

性能    型号

OEC-900

OEC-1200

OEC-1350

镀膜室尺寸

Ф900×H1050mm

Ф1200×H1250mm

Ф1350×H1450mm

工装夹具

拱形单工件盘，更大限度满足客户对均匀性的需要，旋转5-30 r/min,无级变速

1.拱型单工件盘,满足客户对均匀性的要求,旋转530r/min,无级变速.          
2.拱型三工件盘,行星公自转,满足客户对生产量的要求,旋转5-30r/min,无级变速

真空系统

扩散泵KT-600,罗茨泵ZJ-300,机械泵2X-70,维持泵2X-8,管路为304不锈钢.

扩散泵KT-800,罗茨泵ZJ-600,机械泵2X-70,维持泵2X-8,管路为304不锈钢.

扩散泵KT-800,罗茨泵ZJ-600,机械泵2X-70,维持泵2X-15，管路为304不锈钢.

极限真空：优于6×10-4PA

配置防湍流装置,安全互锁设计,手动,自动可选

加热系统

发热管上加热方式，PID控制，最高350℃±1.5℃。

工作气体充气

气体质量控制仪或是手动微调充气阀

真空离子轰击

直流3KV,0.6KW棒状阴极(用于镀膜前自行对工件进行清洗)和气体离子源选配

蒸发源（选配）

1.电子枪:6KW、高压4KV-10KV可调。定位扫描、三角波扫描、圆形扫描、螺旋扫描、方波扫描、正弦波、束斑聚焦性好、定位精度高、扫描再现性好。

2.坩埚:六穴Φ38*20坩埚或四穴Φ38*20加一穴中心弧长87的弧形坩埚（用于耗量大低熔点蒸发材料）或穴Φ48*18坩埚。

离子源（选配）

1.5KVA霍两离子源:用于电镀前清洗或电镀过程进行辅助镀,有利于提高膜层折射率、牢固度、提高膜层致辞密性、附着力。

镀膜控制系统（选配）

1.晶控器:可储存1-99层自动镀膜过程,99种程序数据,精度0.5$+1A固定误差。

2.光控器:采用多波长的全光谱终点分析技术,通过对监控片370-870mm的透射率(或反射率)曲线分析来判定膜层,控制精度高；也可采用单波长控制,自动控制和手动控制。附加MACILEOD膜系计算软件,一体化程度高。

3.光控器配合晶控器能满足高精度,高重复性的镀膜要求,与上位机配合可以实现自动控制

4.国产光控器:波长330-870可调，精度可达到±1.5NM。