一体式WH-2000超声波清洗机内槽尺寸（mm）560×420×500，容积118L，材质、功能、价格与分体式相同。

一体式的电控部分在清洗槽的下面，接触到水，容易损坏。

分体式WH-2000超声波清洗机内槽尺寸（mm）560×420×500，容积118L,内槽采用304L/2mm不锈钢板制作，具有一定的耐腐蚀性，可耐酸碱，外护板采用1.0不锈钢拉丝板制作。超声功率2KW，功率可调，超声波从清洗槽底部向上发射，超声频率20KHz（清洗效果更好），加热功率4KW，具有温控功能，温度数字显示。底部有脚轮。价格：8600元（含税及运费）。分体式的电控部分与清洗槽是分开的。

WH-2800超声波清洗机内槽尺寸（mm）560×420×500，超声功率2.8KW，超声波从底部及前、后两侧面向槽内发射，底部超声功率1.8KW，前、后两侧面各500W。价格11800元。其它参数一样。此款清洗机清洗更全面，清洗效果更佳。

导体/ LED/ LD硅片清洗可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。通过式超声波清洗机可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。 用途 炉前（RCA）清洗：扩散前清洗。 光刻后清洗：除去光刻胶。 氧化前自动清洗：氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。 抛光后自动清洗：除去切、磨、抛的沾污。 外延前清洗：除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。 合金前、表面钝化前清洗：除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。 离子注入后的清洗：除去光刻胶，SiO2层。 扩散预淀积后清洗：除去预淀积时的BSG和PSG。

济宁万和超声电子设备有限公司根据您的要求进行生产通过式超声波清洗机。

超声波电子、光学清洗机：

     本系列超声波清洗机采用编心轮等传动装置，带动固定在机架上的工装上下运动，消除了由于超声波振幅偏差产生的清洁度不一致的缺陷。具有加热、定时、功率可调、循环过滤等功能。主要用于电子、光学等要求清洁度较高的行业，如半导体器件、石英晶体、电路板、压电陶瓷、磁性材料、硅片、光学玻璃等。

技术参数：

超声功率：1～3KW

超声频率：28～60KHz

加热功率：2～6KW

定时范围:0～99分钟

晃动频率:20～30次/分

上下振幅:30mm

电源：220V/380V   50Hz

制作要求：可根据用户的需要制做。